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基于数字化二次曝光干涉的光学元件波前畸变测量 总被引:1,自引:1,他引:0
将傅立叶变换条纹分析方法与二次曝光全息干涉计量相结合,提出了数字化二次曝光干涉术,用于测量光学元件引入的波前畸变。文中给出了理论分析,模拟与光学实验结果证实提出的方法具有高精度、快速的波前测量特点,可应用于激光系统中光学元件的波前畸变在线检测。 相似文献
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通过对同步器接合齿套热处理过程中工艺、设备等环节的分析,找到了影响产品质量的真正原因,并采取相应措施,解决了该类零件质量难以保证的问题。 相似文献
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垂直定向液晶光阀及光电特性的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
系统地讨论了排列相畸变模式液晶光阀结构,原理和制作,结合实际测试对其等效电路和电学匹配进行了分析,详细讨论了它的光电特性及相互关系,实测的液晶垂直排列方式工作的液晶光阀性能指标为,分辨率大于50lp/mm,白光输入灵敏度为6.77μW/cm^2,响应时间为200ms/300ms,白光输出对比度为200:1。 相似文献
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Fowler—Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤研究 总被引:1,自引:1,他引:0
本文研究了Fowler-Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤及其室温退火。结果表明有四种损伤产生,氧化物正电荷建立,Si/SiO2快界面态增长,慢界面态产生和栅介质电容下降,当终止应力后,前三种损伤在室温下有所恢复,但最后一种损伤没有变化,实验还表明:产生的慢界面态分布在禁带上半部;高电场下栅介电容呈现无规阶梯型下降,对四种损伤及其室温退火机理进行了讨论,还给出产生的慢界面态对高频电容- 相似文献
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针对可控电解珩磨复合加工方法的特点,提出了对其体系电解液的要求,并对研究出的五种电解液的加工特性,进行了比较深入的探讨。 相似文献