全文获取类型
收费全文 | 10559篇 |
免费 | 563篇 |
国内免费 | 501篇 |
专业分类
电工技术 | 1282篇 |
综合类 | 567篇 |
化学工业 | 2901篇 |
金属工艺 | 1121篇 |
机械仪表 | 365篇 |
建筑科学 | 192篇 |
矿业工程 | 86篇 |
能源动力 | 59篇 |
轻工业 | 1316篇 |
水利工程 | 30篇 |
石油天然气 | 693篇 |
武器工业 | 43篇 |
无线电 | 960篇 |
一般工业技术 | 1237篇 |
冶金工业 | 222篇 |
原子能技术 | 472篇 |
自动化技术 | 77篇 |
出版年
2024年 | 72篇 |
2023年 | 289篇 |
2022年 | 334篇 |
2021年 | 388篇 |
2020年 | 285篇 |
2019年 | 303篇 |
2018年 | 156篇 |
2017年 | 236篇 |
2016年 | 215篇 |
2015年 | 253篇 |
2014年 | 529篇 |
2013年 | 442篇 |
2012年 | 476篇 |
2011年 | 477篇 |
2010年 | 485篇 |
2009年 | 481篇 |
2008年 | 539篇 |
2007年 | 556篇 |
2006年 | 538篇 |
2005年 | 556篇 |
2004年 | 503篇 |
2003年 | 487篇 |
2002年 | 389篇 |
2001年 | 338篇 |
2000年 | 316篇 |
1999年 | 252篇 |
1998年 | 186篇 |
1997年 | 166篇 |
1996年 | 218篇 |
1995年 | 172篇 |
1994年 | 174篇 |
1993年 | 153篇 |
1992年 | 123篇 |
1991年 | 140篇 |
1990年 | 135篇 |
1989年 | 152篇 |
1988年 | 42篇 |
1987年 | 30篇 |
1986年 | 14篇 |
1985年 | 5篇 |
1984年 | 10篇 |
1983年 | 3篇 |
1982年 | 2篇 |
1980年 | 2篇 |
1979年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
41.
4.扫描速度(VM)调制电路电子束的扫描速度直接影响屏幕亮度,而且与扫描速度高低成正比关系。传统的方法是通过改变CRT阴极上的调制电压的大小,使电子束流发生变化而产生亮度差来显示图像。但这种方法有一个明显的缺陷,即出现亮度过调时,会引起图像信噪比降低而使图像边缘模糊。 相似文献
42.
吸水膨胀型膨润土/交联聚丙烯酰胺颗粒堵剂 总被引:9,自引:0,他引:9
使丙烯酰胺、少量N,N-亚甲基双丙烯酰胺在钙膨润土存在下进行水溶液引发接枝共聚合,聚合产物经造粒、粉碎、筛分,得到粒径0.5~1.0mm的颗粒堵剂。根据颗粒堵剂吸水量大小确定丙烯酰胺与膨润土最佳质量比为7:1,引发剂最佳用量为500g/t,交联剂最佳用量为300g/t,吸水量与这3个参数之间的关系曲线都经过最大值,颗粒堵剂在去离子水中的吸水量为560~650mL/g。该堵剂已大规模生产,在胜利、中原油田许多采油厂已用于调剖、堵水和调驱施工,在青海、江苏、大港、冀东等油田也已开始使用。在胜利东辛采油厂的一个井组,连续3个月在3口井注入该堵剂共27t,使井口压力上升3MPa,产油量大幅度增加。表l参l。 相似文献
43.
44.
45.
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(10×8cm2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀刻,制作了分辨率优于0.5μm,特征线宽0.38μm的4(100mm)铬掩模版。 相似文献
46.
交联粘土催化剂的结构,性质和应用 总被引:7,自引:0,他引:7
交联粘土是当今备受瞩目的催化材料,在石油加工、精细化工以及环境科学领域有十分广阔的应用前景。介绍了交联粘土的制备、结构、性质和应用,评述了有关方面的最新进展。 相似文献
47.
48.
49.
高亮度、长寿命的热场致发射(Thermal field emitter)阴极自七十年代中期已受到人们的关注和重视,历经十多年在理论分析、工艺制备和实验研究上做了大量工作之后,于1988年在电子束曝光机上的应用中取得了突破性进展。用晶向为(100)的钨和具有低逸出功的锆制成的(Zr/O/W)热场致发射阴极在四千小时的使用寿命下亮度值超过六硼化镧阴极一个数量级以上,最近的实验结果表明:在工件台上小束斑下能得到接近两千安培每平方厘米的束流密度,而且四十小时内束流稳定度接近千分之一。显然,这几个表征曝光系统综合技术性能的重要指标,说明多年困扰于各种电子束曝光系统(特别是高斯圆斑电子束系统)在高分辨率情况下生产率较低的技术难题已经得到了比较圆满的解决。 八十年代末期,当热场致发射电子源曝光系统的技术关键解决后,这项技术就成为技术发达国家,特别是美国和日本,在电子束曝光领域进行技术竞争的热点;九一年五月底在美国召开的国际三束会议上有关场致发射阴极和MEBES—4型机已经采用TFE的最新报道充分证实了这项技术在电子束曝光技术应用中的重要地位和发展潜力。 相似文献
50.