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991.
在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备了厚为630-780nm的e-Ti-N薄膜。结果表明:当膜成分(原子分数,%,下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,磁化强度4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而矫顽力Hc下降为89A/m,可以满足针对1.55Gb/cm^2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要,N原子进入α-Fe使α′具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α′→α γ′的分解,稳定了强铁磁性相α′,是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因。由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度Hc^D与晶粒度D有以下关系:Hc^D∝D^6,晶粒度控制非常重要。N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化。提高溅射功率也使晶粒度下降。两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降。晶界是择优沉淀地点,在α′晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α′不能长大。薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃。 相似文献
992.
993.
994.
995.
氮化铝陶瓷研究和发展 总被引:23,自引:2,他引:23
从氮化铝陶瓷的制备工艺,即粉末的合成、成形、烧结3个方面详细介绍了氮化铝陶瓷的研究状况,指出低成本的粉末制备工艺和氮化铝陶瓷的复合形状成形技术是目前很有价值的氮化铝陶瓷的研究方向。 相似文献
996.
高纯钨中金属杂质元素的化学光谱测定 总被引:1,自引:0,他引:1
王蓬 《有色金属与稀土应用》1997,(1):34-36
本文介绍了在国产光栅光谱仪上用正交设计法选择摄谱条件,分析难熔金属钨中的杂质元素。 相似文献
997.
998.
美国哈挺公司开发的Kel-Vista高精度数控内、外圆磨床具有175mm中心高和1000mm顶尖距,工件的装卸极其简单,调定时间短和便易的菜单编程方式,并具有磨削、调定、修整砂轮的整套指令循环。还有它的GE FANUC 21i的CNC数控系统。由于该公司开发的Kel-Vista高精度数控内、外圆磨床可磨削各种型面及其圆滑连接,如用于喷雾器喷嘴的模具型芯头、型芯杆、型芯轴的粗、 相似文献
999.
采用倾斜板冷却体法对亚共晶高铬铸铁进行半固态成形,研究倾斜板角度对亚共晶高铬铸铁半固态组织的影响规律,并借助Imagetool图像分析软件分别定量分析了其初生奥氏体的形状系数和等效直径的变化特征.结果表明改变倾斜板角度可明显改善亚共晶高铬铸铁初生奥氏体的形貌,为球状晶的获得提供了条件. 相似文献
1000.
在粉末冶金的基础上,结合半固态金属加工技术和21世纪陶瓷基复合材料成形的发展趋势,从而提出了陶瓷基复合材料伪半固态触变成形工艺,并且应用该工艺将2A12铝合金粉末和基体SiC颗粒按不同比例混合而得到的复合材料制备出卫星角框架制件。通过金相分析、拉伸等试验,证明了用该工艺成形陶瓷基复合材料是可行的。结果表明,该工艺成形的零件微观组织比较均匀,硬度比较高并且具有一定的塑性,为陶瓷复合材料以及高熔点材料在更多领域中的应用起到推进作用,同时为该工艺的进一步研究奠定了基础。 相似文献