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以圆柱形刚体为研究对象,推导了刚体轴线与仪器转轴不重合情况下的转动惯量误差表达式,进一步给出了均匀细棒和均匀薄圆盘的误差表达式,且定量地给出了误差,并对其结果进行了分析,为改进测量方法及实际应用提供了理论依据. 相似文献
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基于(w,z)参数化轴对称Three Dimensions(3D)摆的姿态控制问题研究,提出(w,z)参数描述姿态描述方法。该方法通过2次绕正交轴旋转,引入复变量,将球面上的点向复平面投影。提出Proportion Differentiation(pd)控制对轴对称3D摆的姿态控制方法。首先列出轴对称3D摆的动力学方程,以(w,z)参数表示轴对称3D摆的姿态运动学方程及推导过程。利用(w,z)参数设计出PD控制器,使得轴对称3D刚体摆在其倒立位置渐近稳定。仿真实验验证了控制器对轴称3D摆姿态控制的有效。 相似文献
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步进式变形监测仪器具有长期测量、测值稳定、可靠性高、测试原理简单、适用范围广等优点,在中国的大坝安全监测领域得到了广泛应用,但大量程步进式变形监测仪器的研制很难。文中介绍了一种新型步进式垂线坐标仪,该垂线坐标仪在引入独特的结构设计、先进的电子测量技术和优化的电机驱动控制策略的基础上,很好地解决了大量程工况下的高精度测量问题。 相似文献
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The fabrication of silicon based micromechanical sensors often requires bulk silicon etching after aluminum metallization. All wet silicon etchants including ordinary undoped tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH)-water solution attack the overlaying aluminum metal interconnect during the anisotropic etching of (100) silicon. This paper presents a TMAH-water based etching recipe to achieve high silicon etch rate, a smooth etched surface and almost total protection of the exposed aluminum metallization. The etch rate measurements of (100) silicon, silicon dioxide and aluminum along with the morphology studies of etched surfaces are performed on both n-type and p-type silicon wafers at different concentrations (2, 5, 10 and 15%) for undoped TMAH treated at various temperatures as well as for TMAH solution doped separately and simultaneously with silicic acid and ammonium peroxodisulphate (AP). It is established through a detailed study that 5% TMAH-water solution dual doped with 38 gm/l silicic acid and 7 gm/l AP yields a reasonably high (100) silicon etch rate of 70 μm/h at 80 °C, very small etch rates of SiO2 and pure aluminum (around 80 Å/h and 50 Å/h, respectively), and a smooth surface (±7 nm) at a bath temperature of 80 °C. The etchant has been successfully used for fabricating several MEMS structures like piezoresistive accelerometer, vaporizing liquid micro-thruster and flow sensor. In all cases, the bulk micromachining is carried out after the formation of aluminum interconnects which is found to remain unaffected during the prolonged etching process at 80 °C. The TMAH based etchant may be attractive in industry due to its compatibility with standard CMOS process. 相似文献
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所设计的数字式倾角仪是一种基于MEMS热电偶加速度计的智能测量仪,可用于测量0°~360°倾角,同时,针对环境温度变化时对加速度计的影响,通过软件进行了补偿,测试表明:该倾角仪的测量精度达±0. 1°,并具有良好的工作稳定性和较高的性价比。 相似文献