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21.
介绍了细胞微注射用玻璃微针的制造。实验结果表明以国产玻璃毛细管为原料,通过对加热温度、拉伸速度、拉伸长度及顺序的合理配置可以制造出各种规格的微注射用玻璃微针。为拉针器的国产化及商品化提供了技术基础。  相似文献   
22.
利用ANSYS/LS_DYNA的动力学分析功能对GS3050型超高速数控锯床安全防护罩的抗冲击能力进行了数值分析,对刀具碎片侵彻有机玻璃的过程进行了数值模拟.结果表明,采用厚度为15 mm的改性丙烯酸脂有机玻璃作为GS3050锯床的安全防护罩是可靠的.数值分析和试验的结果吻合.  相似文献   
23.
本文描述了使用moire技术测量平板玻璃折射率的理论并进行了实验论证。测量方法简单且快捷。可精确测量任何透明材料的折射率。测量精确度可达10~(-5)。  相似文献   
24.
研制出了一种新型锗酸盐声光玻璃。与已报导的亚碲酸盐玻璃和重燧石玻璃的性能作了比较。我们的锗酸盐玻璃的声光品质因数优于重燧石玻璃。  相似文献   
25.
避免出料管破裂或断裂是保证核废料高放废液玻璃固化进程的重要措施之一。通过建立力学模型,分析了服役工况下不同因素对出料管的受力作用及应力大小。结果表明,熔融高放废液玻璃固化料静水压力作用和玻璃固化料及出料管自重作用导致的出料管最大拉应力,远小于出料管不同服役温度时对应的拉伸强度,其对出料管破裂风险影响极低。出料管在停止出料阶段,同时承受固化料对其作用的静水压力和内外壁温差导致的热应力叠加作用,由此导致的最大拉应力分布在出料管内壁,且足以对出料管产生明显不利影响。通过对出料管内、外径进行优化设计,可降低服役过程中导致的最大拉应力值,从而保障出料管的安全可靠应用。  相似文献   
26.
采用吸铸法制备Zr70Cu13.5Ni8.5Al8非晶合金,采用同步差示扫描量热仪(DSC)和万能试验机对非晶合金显微结构进行表征和力学性能测试,并利用XRD和SEM对试样的相组成和的剪切带观察。研究发现:随着吸铸功率增加,热稳定性、玻璃形成能力不断提高;Zr70Cu13.5Ni8.5Al8非晶合金的锯齿流变现象越明显,综合力学性能越好,其中吸铸功率8 kW时,试样的屈服强度、抗压强度和塑性达到最值,室温综合力学性能最好,且剪切带分布情况最好,但是继续提高吸铸功率,力学性能反而变差。  相似文献   
27.
高密度硬盘介质静态磁性参数的精确测量对研制高密度硬盘至关重要.本文从测量系统和材料两方面对玻璃基噪声的影响机理做了较详尽的分析;并介绍了消除玻璃基噪声影响的四种方法,这四种方法在测量同一硬盘介质静态磁性参数时相对偏差小于5%,因此这四种方法都是切实可行的.  相似文献   
28.
研究了一种热稳定性好的中温固体氧化物燃料电池密封玻璃. 研究表明, 此密封玻璃的热膨胀系数(室温~631℃)为9.8×10-6/K, 与8YSZ电解质的热膨胀系数10.0×10-6/K(室温~631℃)接近, 并且在700℃热处理300h后, 该密封玻璃的热膨胀系数几乎没有变化. 粘度实验表明, 玻璃在700℃下具有足够的刚性, 适合于运行温度在700℃左右SOFC的密封. 化学相容性的研究显示, 在700℃下与8YSZ反应300h后没有发现显著的界面反应.  相似文献   
29.
在总结前人工作的基础上,利用MonteCarlo方法建立了次级电子激发过程的数学模型。然后利用此模型计算了一类重要的次级发射体──高铅硅酸盐玻璃的次级发射性能。本文首次把次级电子发射体的材料构成与其次级电子发射性能通过MonteCarlo计算联系了起来,为新型次级电子发射材料的设计提供了一种计算方法。  相似文献   
30.
An approach to deposit polycrystalline silicon layers on amorphous substrates is presented. It is shown that metastable amorphous silicon can be transformed into its more stable microcrystalline structure at a temperature below 330 °C via an intermediate liquid solution stage. In particular, the interaction of liquid indium nanodroplets in contact with amorphous silicon is shown to lead to the formation of circular polycrystalline domains. Crystallinity of these domains is analyzed by micro-Raman spectroscopy. The droplet size necessary for the onset of crystallization is related to the temperature of the film. Full coverage of the substrate with microcrystalline silicon has been obtained at 320 °C within less than one hour. These films might act as seeding layers for further enlargement by steady-state liquid phase epitaxy.  相似文献   
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