应力制约的InSb焦平面探测器均匀性

采用焦平面探测器均匀性作为衡量InSb芯片承受应力的方法,通过工艺改进有效地降低了应力水平,提高了128×128 InSb焦平面探测器的均匀性,取得了响应非均匀性为3.0%的结果.     

可见光面阵CCD响应非均匀性的检测与校正

通过分析可见光面阵CCD的响应非均匀性,提出了一种适用于所有面阵CCD的响应非均匀性检测系统。利用该检测系统对全帧型面阵CCD485进行了辐射定标,建立了面阵CCD485数字图像的灰度值和积分球出口处辐照度之间的响应关系,并描绘了响应度曲线。从定标采集得到的数字图像可以看出灰度值有明显的跳跃,响应非均匀性已经超过了5%,在微光拍照时将严重影响成像的质量,所以必须进行校正。根据面阵CCD响应度曲线来选择非均匀性校正算法,考虑到面阵CCD485的响应度为线性,这里采用了两点校正算法,求出面阵CCD各个像元的校正因子(增益和偏置),并存储到校正矩阵中,通过乘积加法运算把各个像元的信号校正成面阵CCD的平均信号值。实验结果表明,两点校正算法使面阵CCD485的响应非均匀性降低到原来的1/10左右,是一种实用有效的校正方法。     

煤矿深立井井壁冻结压力非均匀性分析

冻结法凿井工程中,冻结压力分布及大小受到冻结壁厚度、土层含水量与性质以及施工工艺等因素的影响,导致深立井冻结压力呈现非均匀分布.为寻求较为合理的深立井非均匀冻结压力计算方法,依据淮南矿区丁集矿、口孜东矿和杨村矿等深立井冻结压力现场监测数据,分析得到淮南矿区深立井非均匀冻结压力可由公式P(θ)=P0(1+βco s2θ)...     

红外扫描仪中基于场景的非均匀性校正

红外扫描仪中,存在像元响应非均匀性的问题。分析了基于场景的非均匀性校正算法,和基于神经元网络的红外焦平面非均匀性校正算法,提出了在场景缓变时的校正算法;并结合两者,提出了适合场景缓变时的基于神经元网络的红外焦平面非均匀校正的新算法。仿真证明,新算法具有优异的性能。     

场景主动运动控制的非均匀性校正方法

在分析IRFPA响应稳定性的基础上,针对现有的非均匀性校正方法的不足和实际工程需求,提出了一种自适应的基于场景主动运动控制的非均匀性校正方案.以传统的人工神经网络法(NN-NUC)为基础,针对其在实际应用中存在的不足进行了改进:加入了预校正环节降低固定图形噪声(FPN)、自适应的学习速率加快算法收敛速度、设置阈值识别场...     

基于冗余误差控制的非均匀有理B样条曲线插补算法研究

提出了一种能有效控制冗余误差的非均匀有理B样条曲线插补算法.该算法综合了等弓高误差插补算法和恒定进给速度插补算法的优点,小曲率情形时在保证加工精度的前提下,通过引入进给倍率因子,增大进给速度以改善误差过度冗余;同时在大曲率情形下,可控制弓高误差在限定的误差范围以保证轮廓精度.这样既可保证轮廓精度,又可提高加工效率.仿真实例证实了该插补算法的有效性和可行性.     

基于消色差超构光栅的AR显示光波导

增强现实（AR）技术将计算机生成的虚拟信息融入现实世界,可为使用者提供沉浸式的体验,被认为是下一代显示技术,但依旧存在一些问题。针对AR显示系统中色差、色彩均匀性、光场均匀性等问题,设计一种基于消色差超构光栅的光波导解决方案。仿真超构光栅的耦出响应,在单层超构光栅的情况下,实现了三种波长光（473,532,620 nm）相同角度入射和相同角度出射,消除了色差。采用双层超构光栅,在实现消色差的基础上,进一步实现了对不同波长光的强度比例可调和耦出效率可调,改善了色彩均匀度,有望用于扩瞳。所提基于消色差超构光栅的AR显示光波导设计有望为头戴式AR显示设备提供全新设计思路。     

超低NOx排放自身预热式Ⅰ型辐射管烧嘴热态实验研究

介绍了一种超低NOx排放自身预热I型辐射管烧嘴的结构与工作原理.采用热态实验对烧嘴性能进行测试与分析,得出了烧嘴的冷态点火特性曲线、烧嘴在不同燃烧模式下NOx排放水平、火焰稳定性及辐射管表面温度分布.研究烧嘴不同工作模式对NOx排放的抑制作用,得出了从冷态升温到高温应用全过程的NOx排放指标,为该类型烧嘴实现工程应用提...     

二阶非均匀带通采样信号的快速恢复

本文讨论了实带通信号在二阶非均匀采样下的快速频域搬移、恢复,即用FFT方法将实带通信号恢复到两倍带宽(2B)内的复解析信号,而幅度和相位保持不变,最后经过简单的运算,得到原始频率。计算机模拟证实了上述方法。     

长波红外减反射膜及锥镜膜厚均匀性研究

红外探测因全天候、作用距离远和抗干扰性好等优点而被广泛应用。本文提出在锥镜上制备8～12μm反射率小于0.5%的长波红外减反射膜,利用Essential Macleod软件,在ZnS基片上完成了长波红外减反射膜的膜系设计。采用物理气相沉积方法,选择n=4.3@10μm的Ge做基片和镀膜材料的粘结层,n=2.2@10μm的ZnS为高折射率材料,n=1.35@10μm的YF₃为低折射率材料,完成了光学薄膜的制备。提出锥镜膜厚均匀性的补偿方法,通过使用修正后的补偿挡板,使10°锥镜薄膜厚度均匀性达到99%。利用Lamda1050光谱仪测试了锥镜的反射光谱曲线和薄膜厚度均匀性测试曲线,结果表明所研制的膜层在8～12μm处反射率均值为1.483%,对试验件开展了环境适应性测试,测试结果满足使用要求。