溶液温度对电化学沉积氧化亚铜薄膜相成分和显微结构的影响

用电化学方法在不锈钢基体上沉积多晶Ｃｕ２Ｏ薄膜并用Ｘ射线衍射和扫描电进行了分析研究了溶液温度对薄膜相组成、晶粒尺寸和择优取向的影响，当溶液的ＰＨ＝９，温度低于５０℃时得到的是Ｃｕ２Ｏ／Ｃｕ复相薄膜，纯Ｃｕ２Ｏ薄膜可在溶液温度高于５０℃时获得，纯Ｃｕ２Ｏ薄膜具有（１００）择优取向，实验发现薄膜的晶粒尺寸随溶液温度的增加从０．１２μｍ增加到０．６５μｍ。     

铝电解技术制取中间合金的理论与实践

本文系统地总结分析了铝电解技术生产铝基中间合金的理论研究与生产的进展状况。讨论了电解槽中制取合金的热力学可行性、合金元素还原的电化学反应、界面现象、合金元素氧化物的溶解与损失、合金浓度等,列举了生产A1-B、A1-Zr等合金的工业试验结果,提出今后铝基合金生产的研究方向。     

弥散（颗粒涂层）及单片（Zr-4合金包壳）U-Mo合金的涂层技术

分别采用化学气相沉积（CVD）硅烷和高温接触式扩散（HTCD）的方法在U-7Mo（w／w）合金颗粒上涂敷了硅材。分别用氢化-破碎-退火脱氢和原子离心破碎两种方法制得涂敷颗粒，对两种颗粒的涂层进行了比较。详细描述了用两种方法涂敷后的颗粒制成的微型板材。第三种微型板是直接使用硅粉与U-7Mo合金粉和铝粉混合以此来取代铝合金粉。本文中还提及了用热轧方法制得的用Zr-4作涂层的微型单片U-7Mo合金板。这种方法的不同之处在于制板工艺过程详尽且具有一定的通用性，在对目前常用的燃料装置和焊接设备进行少量改进的前提下，就可能较容易将高通量反应堆使用的高富集度燃料转变为使用低富集度燃料。     

离子束辅助沉积防腐的铝和铝合金涂层

为了研究腐蚀性能与入射氩离子能量，离子－原子到达比和离子入射角的关系，用离子束辅助沉积方法在低碳钢上沉积纯铝涂层。根据理论对基体－涂层体系的局部化腐蚀性能的考虑，有可能估计孔隙度，涂层缺陷的相对数和这种缺陷的平均直径它们对过程参数扔依赖关系提出对膜生长的初始阶段的深入了解，并且证明在近表面区域的能量沉积是改善涂层缺陷，因而改善钢－铝体系的腐蚀性能最重要的因素。     

聚焦离子束技术最近进展

本文评述了聚焦离子（ＦＩＢ）技术的最新进展。这些技术包括离子植入，离子束辅助蚀刻和沉积以及就地制造，由于ＦＩＢ的无掩模能力和高电流密度，发现ＦＩＢ作为一种显微外科手术工具的在超大规模集成（ＵＬＳＩ）器件或材料分析以及就地制造方面有重要应用，最近的聚焦离子束系统能产生直径小于１０ｎｍ的聚焦离子束，而且作为纳米制造工具的重要性也日益增加，使用ＦＩＢ主要在ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ异质结构中制造了各种小尺寸     

阳极真空弧沉积膜的背散射分析

通过对阳极真空弧沉积膜的背散射分析，测出沉积膜中阳极材料Ｗ含量不大于０．０４％，得出了起弧条件与Ｗ蒸发量的关系。