反应离化团束（RICB）法生长CN硬质薄膜

用反应离化团束（ＲＩＣＢ）法，以低分子量聚乙烯为蒸发材料，氨气为反应气体，在ＮａＣｌ（１００）和Ｓｉ（１００）衬底上淀积Ｃ－Ｎ薄膜，透射电子衍射（ＴＥＭ）分析表明薄膜中含有β－Ｃ３Ｎ４晶粒，Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）和红外吸收谱（ＩＲ）表明存在Ｃ，Ｎ原子的化学键合。     

溅射——气体——聚集共沉积法制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜

提出了溅射－气体－聚集共沉积制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜的新方法，并利用该方法成功地在方华膜衬底上制备了系列Ｆｅ／Ａｇ及ＣａＦ２复合团簇镶嵌薄膜样品。透射电镜分析结果表明，样品中Ｆｅ（Ｃｕ）团簇都较好地镶嵌于Ａｇ（ＣａＦ２）基质中，其结构为两种材料的多晶共存形态。进一步分析发现，与块材相比，Ｆｅ／Ａｇ样品中Ｆｅ团簇晶格常数呈现出不同程度的收缩，而Ｃｕ／ＣａＦ２样品中Ｃｕ团簇晶格常数则呈现出不同程度的膨胀。运用附加压力的模型对该现象进行了解释。     

曲拐传动多轴箱单连杆多曲柄机构的设计与应用

简述曲拐传动多轴箱单连杆多曲柄机构的设计要点及注意事项，包括机构的构成原理，曲柄长度的确定，主动轴的最佳位置，加工共线孔时的特殊情况，支承拐轴的设置和机构的平衡等。     

预应力砼管桩与桩帽连接节点轴拔性能试验研究

本文采用直径为５５０ｍｍ的预应力砼管桩，通过九个试件对桩与桩帽连接节点的轴拔承载力进行了试验研究，讨论了桩与桩的连接形式，连接节点轴拔承载力的建议公式和确定管桩埋入桩帽深度的计算方法，并建议在实际工程中应采用的连接形式。     

轰击能量对离子束增强沉积Cr—N薄膜微观结构和硬度的影响

采用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）技术，在不同能量氮离子的轴助轰击下制备了Ｃｒ－Ｎ薄膜，通过ＳＥＭ观察、ＸＲＤ分析和显微硬度测定，发现离子轰击能量对Ｃｒ－Ｎ薄膜的表面形貌、相组成和硬度有显著的影响；随着能量的升高，膜表明形貌由岛形颗粒状转变成蜂窝状；一定能量轰击下获得的Ｃｒ２Ｎ和ＣｒＮ混相结合有最高的薄膜硬度；高达１６ｋｅＶ的氮离子轰击可诱发非晶化的出现，并对膜有一定的强化作用。在此基础上探讨了离子轰     

弯扭组合变形下总弯矩图的图线特性探讨

本文主要阐述的内容是,通过数学方法的分析论证,以探讨园轴在弯扭组合变形起的总弯矩图的图线特性,从而判定最大总弯矩的截面位置。     

化学沉积法制备的Ni(P)、Ni(B)纳米薄膜的结构与磁性

用化学沉积法制备了系列Ni(P),Ni(B)合金薄膜样品，用X射线衍射结构分析方法证明样品由尺寸为纳米量级的颗粒组成，样品在磁性上表现出超顺磁性，对热磁处理前后的磁学参数进行了比较研究。     

电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析

采用X射线光电子能谱（XPS）对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析。研究结果表明，Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜，而钨的氧化作用远大于镍，Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用。     

卧轴强制式砼搅拌机轴端密封装置新结构的探讨

针对卧轴强制式砼搅拌机轴端密封装置目前存在的密封性能差的问题,提出了两种新型的密封装置,即油浸石棉填料密封与箱形截面骨架环或角形截面金属环唇形密封相结合的两种轴端密封装置。新型装置具有结构较简单、密封可靠、成本低,维修方便以及适应性强等特点。     

制备高强度高导电材料的新途径

指明了发展高强度高导电率材料过程中存在的主要问题，通过对喷雾共沉积工艺过程的特殊性和高导电材料的强化机制两方面较为详尽的分析，指出采用喷雾共沉积的工艺可望制备出高强度高导电率的材料