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91.
渗析法处理酸洗废液的膜面积   总被引:3,自引:1,他引:2  
周柏青 《水处理技术》1996,22(3):135-140
本文介绍了渗析地处理钢铁酸洗废液的原理,建立了计算渗析膜面积的公式,提出了渗析适宜条件是流入倍数为1.05-1.25,回收率为80%-90%。  相似文献   
92.
NH_4Cl水溶液在成膜过程中的致孔作用   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文以NH4Cl饱和水溶液做添加剂,对PVDF/NMP体系在成膜过程中的致孔作用做了研究。铸膜液中随NH4Cl水溶液加入量的改变,膜孔径也发生变化,并出现最大值。通过X-射线衍射扫描发现制膜液中存在无机盐时膜中无定形态结构增加,表明无机盐的加入有助于膜孔形成  相似文献   
93.
无机膜的应用与展望   总被引:4,自引:0,他引:4  
施力  陈大博 《功能材料》1994,25(5):475-480
本文综述了无机膜的发展、制备方法和应用。  相似文献   
94.
着重讨论了TiNx薄膜俄歇电子谱的定量分析方法和X射线光电子谱中线形的变化。利用已知组元强度定量分析技术和Ti的LMV俄歇电子峰,探讨TiNx薄膜中N含量的定量方法。由该方法给出的定量结果与X射线光电子谱定量结果相一致。同时,利用X射线光电子谱测定了TiN和Ti2N2p轨道的结合能。并针对Ti2p峰形随N含量的变化,给出新的解释。  相似文献   
95.
薄Si膜对基底表面粗糙度的影响   总被引:8,自引:3,他引:5  
利用ZYGO光学干涉测量仪,散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度.详细分析了薄Si膜对基底均方根粗糙度的影响,由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度,结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象.提出了一定厚度范围的薄Si膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想.  相似文献   
96.
97.
介绍了I2C总线技术及其在盐膜拉制CCD监控仪中的应用原理,详细描述了I2C总线接口电路的设计原理,并对I2C总线的读写时序,器件的寻址方法以及程序设计进行了探讨。  相似文献   
98.
尤溪县青印溪二级水电站是一座高水头,长压力引水隧洞电站。为解决调保问题,我们引进河海大学常州分校“水电站用爆破膜代替调压井”新技术,使爆破膜作为水电站调节保证措施首次在国内中高水头,长压力引水隧洞水电站的应用取得成功。  相似文献   
99.
洪冬梅  朱震 《激光与红外》1998,28(2):119-121
证明了在连续蒸镀两层高,低折射率介质膜过程中,当第一层厚度不足λ/4厚时,刚开始蒸镀第二层膜时其反射率变化趋势与第一层膜相同,并由此展开,说明两层厚度不足λ/4的薄膜在很大程度上等价于一层λ/4的薄膜。  相似文献   
100.
形成前处理对提高铝箔比容的影响   总被引:3,自引:2,他引:1  
阳极氧化膜是电解电容器的工作介质,其质量的优劣直接影响着铝电解电容器的性能。若在形成前将腐蚀箔在75℃左右的A溶液(〔A〕≈0.2mol/L)中浸泡约10min,然后在570℃左右热处理3h,阳极氧化膜的结构与性能将得到改善,铝箔比容可提高25%~50%,而形成电能降低30%~50%,从而可有效提高形成效率。  相似文献   
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