利用脉冲和恒电流电镀满意微观表面的镀层

讨论了光滑或非均匀生长阴极表面的主要因素，这些因素包括溶液的电阻、金属离子到阴离子的扩散，其他组分到阴极的扩散，沉积表面的结构等。在恒电位和动电位条件下，利用低频和中频单极脉冲电流研究了镍在光滑和微观粗糙表面上的电沉积。     

高强度钢的Zn—Ti合金新镀层

本文研究了一种Ｚｎ－Ｔｉ合金新镀层，经盐水浸泡、中性盐雾和大气暴露试验结果试验，其耐蚀明显超过镀Ｚｎ层，并与镀Ｃｄ层相近，用缺口持久拉伸试验检验氢脆性，拉伸持续时间超过２００ｈ，达到原航空部部颁标准（ＨＢ５０６７－８５），该镀层适用于高强度钢防护。     

镀铬层的氮离子注入

为了提高抗磨损性、抗腐蚀性和润滑性,常将各种工程用具和零件镀上铬.在许多用途上,人们都希望能进一步强化镀铬层的特性,进一步提高其性能.虽然用电化学方法沉积的铬层很硬,也很均匀.但对于一些磨擦损伤严重的工作,或一些实质上是粘附磨耗的工作而言,对铬层再作进一步处理,会使其性能更优.不过,任何这样的进一步处理都必须保证不     

电沉积过程电流密度的在线测量

一前言在电沉积过程中,电流密度的大小是影响镀层质量的主要因素之一,而目前在实际生产中主要的还是在经验的基础上来进行估算,精度差。此外,有时尽管有一个具有最佳性能的配方,由于电沉积生产周而复始的进行,各种因素的影响,镀液中各种成分都将发生变化,同时还有电网电压波动,温度的变化,都将使得电沉积过程中的电流密度发生改变。如何及时发现这种改变,并采取措施进行调整,使其复原,这是实现电镀过程控制和调节的主要     

亚硝酸钠作释放剂选择性螯合滴定法测定钯

用EDTA螯合Pd^2 和其它金属离子，然后用亚硝酸钠分解Pd—EDTA螯合物，释放出的ED—TA用Zn^2 标准溶液进行返滴定。大量各种金属离子都不干扰。用于测定Pd—Cu合金镀层、Pd—Sn—Cu合金镀层和Pd—Ti—Si合金中的钯，获得相当满意的结果。     

铁—钼非晶态合金镀层的表面特性

研究了非晶态Ｆｅ－Ｍｏ合金镀层在室温下的原碱性镀液中或其他溶液介质中的表面电位、表面形貌的变化。表面电位变正了约２００ｍＶ，表面形貌为放射花纹状图案。而晶态的Ｆｅ－Ｍｏ合金镀层则没有这种变化。     

射频辉光放电发射光谱在深度分析有效信息量方面的改进

评述了射频辉光放电发射光谱中的两种新的测量方法：调幅技术和偏置电流导电技术。这两种方法在分析薄膜试样时非常有效。应用调幅技术时，辉光放电电压以低频进行调制，在发射信号周期性变化的同时，溅射率降低。尽管随脉冲数的减少发射强度降低，但发射强度能用选频放大器选择性地进行检测，从而能获得较好的信噪比。在偏置电流导电技术中，直流偏置电流被导入由低通滤波器和负载电阻组成的辉光放电灯电路中，偏置电流将大量电子引入等离子体中，从而导致等离子体区域发射强度的增强，而同时由于偏置电流的减少而使得溅射率降低。这两种技术有利于改进辉光放电发射光谱的深度信息分析。