台湾LED/OLED光电材料与组件技术的发展

台湾发光二极管(Light Emitting Diode,LED)的产量已达到世界第一,产值则居世界第二。将回顾台湾发光二极管产业的发展历史,并探讨产业界及研发单位在发光二极管效率提升与质量改善方面的一些重要技术发展历程。有机电激发光(OLED)组件的发展过程,除了显示器的应用发展优势之外,固态照明也是台湾近期的研发重点之一,文中将探讨磷光有机材料、组件结构技术的开发及OLED的发展趋势。     

GaInP/AlGaInP脊形波导激光器器件结构的优化研究

通过优化脊形波导的结构参数可以降低脊形波导激光器的阈值电流,提出了实现亚微米脊宽,从而降低阈值电流的方法。针对脊形波导制作过程中蚀刻深度不易控制的问题,对GaInP/AlGaInP材料中加入蚀刻阻挡层进行了研究。     

离子束刻蚀法制备大功率高效率650nm AlGaInP可见光激光器

用纯Ar离子束刻蚀方法制备出大功率高效率6 5 0 nm实折射率Al Ga In P压应变量子阱激光器.对偏角衬底,干法刻蚀可得到湿法腐蚀不能得到的高垂直度和对称台面.制备的激光器条宽腔长分别为4 μm和6 0 0 μm,前后端面镀膜条件为10 % / 90 % .室温下阈值电流的典型值为4 6 m A,输出功率为4 0 m W时仍可保持基横模.10 m W,4 0 m W时的斜率效率分别为1.4 W/ A和1.1W/ A.     

隧道结AlGaInP发光二极管

报道了通过隧道结将衬底的导电类型从n型转变到p型,从而可以利用n型GaP作为以n型GaAs为衬底的AlGaInP发光二极管的电流扩展层.n型电流扩展层的电阻率低于p型电流扩展层的电阻率,这种结构改善了电流扩展层的作用,从而提高了发光二极管的光提取效率.对3μm GaP电流扩展层的发光二极管,实验结果表明,隧道结发光二极管的发光功率与具有相同基本结构的传统发光二极管相比,20mA时发光功率提高了50%,100mA时提高了66.7%.     

高温Al_(0.3)Ga_(0.22)In_(0.48)P/GaAsHBT电流增益的计算分析

建立了Ａｌ０．３Ｇａ０．２２Ｉｎ０．４８Ｐ／ＧａＡｓ异质结双极型晶极管（ＨＢＴ）中电流输运过程的模型,利用实验得到的材料特性参数进行了ＨＢＴ电流增益随温度变化的模拟．随着温度上升,小电流时电流增益下降较多,而大电流时电流增益基本保持不变．模拟表明,小电流下电流增益的下降主要是由ｅｂ结空间电荷区的复合电流随温度增加而造成的;而大电流下电流增益直至７２３Ｋ下降仍小于１０％．最高工作温度可达８４８Ｋ．由于采用的计算方法充分考虑了空间电荷区复合电流的影响,模拟结果较为符合实际情况,可为研制高性能ＨＢＴ器件所需材料     

新型表面再构的倒装AlGaInP LED

研究一种表面再构的具有全方位反光镜(ODR)结构的倒装AlGaInP半导体发光二极管(LED)。通过湿法腐蚀方法再构N-AlGaInP盖层表面,形成类金字塔的表面结构,使不同角度入射的光有更多的机会出射。比较了表面再构LED与常规LED的电、光学特性,在注入电流为20 mA时,经过表面再构LED的轴向光强和输出光功率是常规LED的1.5倍,表面再构后大大提高了LED的外量子效率,减少了LED内部热量的积累,提高了LED芯片的可靠性。     

脊形波导激光器中GaInP／AlGaInP选择蚀刻性的研究

本文制作了670nmGaInP/AlGaInP应变层量子阱脊形波导激光器,为了进一步优化工艺,在普通的单量子阱材料横向结构中嵌入30－50nm的GaIlP蚀刻阻挡层,用此种材料加工而成的控长1200μm,宽64μm的氧化条激光器的阈值电流密度为340A／cm^2,采用配比为1．0：2．5的HCl:H2O深液对GaInP/AlGaIn进行湿蚀刻研究,得到了较好的选择恂刻性结果。