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MEMS/MOEMS在光通信中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
微机电系统(MEMS)在光学领域中的应用是其最重要的应用之一,其原因不仅在于微机械技术能够改善光学系统的性能和功能,还因为这些光学微系统能够满足市场对光通信网络、数据存储和传感器的需求。本文以MEMS光开关等为例,讨论了基于MEMS技术的各种光电器件在光通信网络中的发展趋势。 相似文献
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文章对光纤陀螺仪的实测信号进行了分析。为了抑制光纤陀螺随机噪声,利用五点三次平滑、数字滤波、小波变换分析法对光纤陀螺静态输出数据进行了滤波处理,通过对比滤波前后陀螺的输出曲线、标准差以及频谱图,可以发现:小波阈值滤波和五点三次平滑相结合的方法能够有效的补偿光纤陀螺的随机误差。 相似文献
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针对铂湿法刻蚀工艺,提出了间断性腐蚀法,并与边腐蚀边搅拌法和静止法进行了对比,结果显示该方法腐蚀铂曲线光滑、效果好。之后,以普通硅片作为衬底材料,二氧化硅作为隔热层,采用上述微机电(MEMS)工艺加工制作了铂热敏传感器。经热敏性能测试,其电阻温度系数在20℃~80℃时为1571.2×10-6/℃;同一批次电阻阻值均匀性为0.35%;非线性度为0.57%;热时间常数为1.1μs;在0.5 h的稳定性测试中其变化幅值为0.005Ω,即精度为0.01%。该热敏传感器制作工艺简单,性能优异,可用于温度敏感、气体传感等热敏传感。 相似文献
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基于SOI的硅微谐振式压力传感器芯片制作 总被引:2,自引:0,他引:2
采用SOI硅片,基于MEMS技术,设计并加工了一种新型三明治结构的硅微谐振式压力传感器,根据传感器敏感单元的结构设计,制定了相应的制备工艺步骤,并且针对湿法深刻蚀过程中谐振子的刻蚀保护等问题,提出了一种基于氮化硅、氧化硅和氮化硅三层薄膜的保护工艺,实验表明,在采用三层薄膜保护工艺下进行湿法刻蚀10 h后,谐振子被完全释放,三层薄膜保护工艺对要求采用湿法刻蚀镂空释放可动结构具有较高的实用价值。最后对加工完成的谐振式压力传感器进行了初步的性能测试,结果表明,在标准大气压力下谐振子的固有频率为9.932 kHz,品质因数为34。 相似文献
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