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121.
现代电子工业Cpk评价中的特殊问题 总被引:2,自引:0,他引:2
现代电子工业生产具有许多新的特点,如果不针对具体情况,均采用传统工业生产中广泛使用的常规方法计算其工序能力指数,评价生产工艺水平,将可能导致错误的结论。总结了电子工业生产中工艺参数的典型特点,并讨论了工序能力指数的正确计算方法。 相似文献
122.
基于单片机的电机软启动设计 总被引:3,自引:0,他引:3
张智杰 《电子工业专用设备》2003,32(1):73-75
介绍了系列单片微机控制异步电机软启动系统的软件和硬件设计。该系统具有控制简单、投资少、运行可靠的优点,改善了机械特性。实践证明该系统实用性强,使用方便。 相似文献
123.
指出了为发展ADSL而提高市话音频铜线电缆的传输质量和维护水平的必要性,分析了铜线电缆线对有关指标参数低劣的原因和对传输ADSL的影响,并提出了一些改进的意见。 相似文献
124.
125.
126.
甲基红掺杂液晶E7的光限幅特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了甲基红染料掺杂的液晶混合物E7对波长为 5 32nm的纳秒脉冲激光的光限幅特性 ,观察了激光通过液晶盒后的远场光强分布及其随入射光能量的变化。实验发现 ,对于厚度为 4 6 μm ,重量体积比为 6mg/ 0 5ml的甲基红染料掺杂的液晶混合物E7薄膜 ,其最初三次测试的箝位输出值分别为 0 70 μJ,1.0 0 μJ和 1 5 2 μJ ,输入限幅阈值在 2 3~ 2 8μJ之间。这种薄膜的极低箝位输出特性对用于人眼和传感器保护的光限幅应用很有意义 相似文献
127.
128.
0-3型(Ba1-x-ySrxPby)(Mn,Ti)O3铁电厚膜的制备与表征 总被引:3,自引:1,他引:3
铁电纳米超细粉体的合成与分散技术是成功制备0-3型铁电厚膜的关键和难点之一。采用Sol-Gel技术可制备呈球形软团聚、钙钛矿相结构完整的30nm~70nm MPBST超细粉体,以及致密无裂纹、表面光洁和铁电性能优良(Pr=3.8μC/cm^2)的0-3型铁电厚膜。通过TEM、XRD、TGA-DTA、AFM等手段分析了Sol-Gel工艺的化学机制和热演化历程,结果表明:采用以乙二醇乙醚为主要溶剂的Sol-Gel技术可降低MPBST粉体/厚膜的合成温度,提高粉体均匀性和晶相结构单一性。 相似文献
129.
一次量子通信QKD和QA协议 总被引:2,自引:0,他引:2
提出一种通过一次量子通信同时实现密钥分发(QKD)和量子认证(QA)的方案.此方案基于GHZ态的相关性,事先在|△>态制备n对处于纠缠态的量子位.最后证明了此协议是有效和绝对安全的. 相似文献
130.