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151.
吕章德 《真空》2005,42(3):51-53
应用实验和蒙特卡罗(DSMC)方法,研究了Crookes 辐射计工作的最佳真空条件.在辐射计内转子可以自由转动的条件下,测量了辐射计转子的转速与腔内真空度的关系,实验表明,转子的转速与腔内的真空度、转子叶片的边长有关.在叶片边长分别为20 mm和10 mm的情况下,最大转速分别出现在0.1 Pa和3 Pa.应用DSMC方法,仿真得到了在不同真空度条件下,作用在转子叶片两边的压力差分布,结果表明,在叶片边长分别为20 mm和10 mm的情况下,最大压力差分别出现在0.1~0.5 Pa和2~5 Pa.文中给出了腔内稀薄气体的速度矢量图.  相似文献   
152.
米伦  李晓勇  王远  卢少波 《真空》2005,42(4):32-34
由机械泵为前级泵,分子泵为主抽泵构成高真空系统,对高压开关管进行真空排气;由温度控制仪程序控制烘箱的升温和保温;通过充气系统对高压开关管进行充/放气来调节管内压力;用"高压开关管测试电源"进行"高压开关管"的高压动态老炼和性能检测.高压开关管排气台为多工位结构;空载时极限真空度优于5×10-6 Pa;烘烤温度为室温~600℃,连续可调,恒温精度优于±1%.  相似文献   
153.
Ni元素对Al-Si-Cu基真空钎焊料接头性能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了添加Ni的Al-Si-Cu基钎料真空钎焊LF21铝合金接头的力学性能、微观组织形貌.结果表明,采用添加Ni元素的真空钎料,可提高钎焊接头的剪切强度,其机制在于Ni元素能够改善LF21铝合金真空钎焊接头焊缝及其基体组织的分布.但随着Ni元素含量的增加,其钎料的熔点也有所提高.  相似文献   
154.
影响皮江法炼镁还原工序的因素   总被引:1,自引:0,他引:1  
影响皮江法炼镁的还原工序的因素有煅白的水化活性度、灼减、吸湿,球的配比、炉料的粉碎粒度、制球后球团密度和还原温度、还原时间、真空度等.只有了解影响还原的因素,才能合理进行设计及有效指导生产.  相似文献   
155.
高纯钴制备技术   总被引:1,自引:0,他引:1  
陈蓉  王力军  罗远辉  张力  陈松  韩林 《稀有金属》2005,29(5):797-802
高纯钴主要应用于磁记录材料、磁传感器材料、光电材料等高技术领域。其制备方法有萃取法、离子交换法、电解法、真空熔炼法等。萃取法和离子交换法能够制备高纯盐,这是制备高纯钴的重要环节。高纯钴盐通过沉淀、氢还原或电解能获得高纯金属原料,该过程也将金属进一步提纯。真空熔炼法能够进一步提纯金属,并得到性能优异的金属锭。采用几种方法结合的工艺路线可以制备出品质优良的高纯材料。  相似文献   
156.
重点研究了真空烧结方法制造的Cuw/CrCu高压开关弧触头材料的结合强度,并分析了制造方法对Cuw/CrCu触头材料结合强度的影响。在万能材料试验机上进行抗拉强度试验,结果显示,真空烧结方法制造Cuw/CrCu触头材料的抗拉强度最好,可以达到400MPa以上,能够满足超、特高电压和特大容量高压开关的技术要求。通过对断口的扫描电镜分析,发现真空烧结的触头材料结合面杂质含量少、无氧化物、孔隙少,这可能是导致真空烧结Cuw/CrCu触头材料的结合强度高的主要原因。  相似文献   
157.
采用单片机及PLC真空回潮机控制系统   总被引:1,自引:2,他引:1  
介绍真空回潮机的结构、控制要求,同时介绍采用单片机和可编程控制器的控制系统组成和应用软件的设计。  相似文献   
158.
李祥苓 《电力设备》2003,4(4):43-44
分析了600MW机组因循环水量低、凝汽器端差大、凝汽器不凝结气体超标造成真空低的原因,采取了循环水泵运行优化、真空泵换型、真空系统严密性治理等一系列的改造措施,取得了显成效。  相似文献   
159.
李岩  王胜辉  林莘  徐建源  安盛民 《高压电器》2003,39(1):34-36,39
针对12,40.5kV和72.5kV户内、外真空断路器,研究开发了永磁操动机构设计与分析软件。该软件工作于Windows操作系统平台,适用于单、双稳态两种结构与直流和电容两种供电方式的永磁操动机构的机械和电磁设计以及相应的电子控制部分设计。可以仅仅根据用户给出的几个主要技术参数要求,完全自动地进行永磁机构的结构参数设计、静态和动态电磁和机械特性的计算、电子控制线路和元件的设计、可变参数的机械零件和装配图的绘制、产品技术文件生成等的工作。  相似文献   
160.
用数值模拟的方法研究了真空开关开断含谐波的电流时可能出现的截流问题。发现由于谐波的存在,含谐波的电弧电流过零点处的电流变化率可能比基波的相应值增大或减小很多,增大的电流变化率可能使截流值减小,而减小的电流变化率可能使截流值增大,因此系统含谐波时就有可能更容易导致真空开关出现截流,从而可能导致危险的过电压,对被保护的设备造成危害,影响真空开关的应用。  相似文献   
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