浅论食品化学污染及其防治策略

分析了食品化学污染的主要途径,以及这些污染物对人体健康的危害性,对食品化学污染的防治策略进行了探讨。     

氧化石墨烯的制备及形成机理研究

氧化石墨烯(GO)作为一种石墨烯衍生物,结构中含有大量羟基、环氧基、羧基和羰基等含氧官能团,使其易与其他物质通过相互作用复合,从而提高和拓宽传统材料的性能及应用。GO的结构和尺寸等性质会受石墨氧化过程中制备方法、石墨来源、氧化剂种类、反应条件等因素的影响。针对GO的制备、形成机理、结构控制等方面的研究逐渐引起科研工作者的重视。该文综述近几年有关GO的制备、方法改进、制备过程中涉及到的化学反应和形成机理以及GO结构影响其宏观性能和应用的研究进展,指出确定GO的形成机理和精确控制GO的结构是制约其应用的关键,从工业化生产和可持续性发展的角度对要拓宽和实现GO的应用存在的问题及研究方向进行了总结和展望。     

液态源雾化化学沉积法制备(Pb,La)TiO3薄膜

研究了在Pt/Ti/SiO2 /Si基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅 [(Pb ,La)TiO3,PLT]薄膜的工艺 ,并分析了各种因素对其相结构的影响。采用金属有机物热分解工艺的先体溶液 ,在沉积阶段 ,用超声波将先体溶液雾化 ,产生微米级的汽雾 ,由载气 (Ar)引入沉积室进行沉积 ,并在沉积室进行预热处理。重复上述过程 ,直到膜厚达到要求 ,再进行退火处理得到均匀、致密的薄膜。此工艺各项参数如下 :沉积前沉积室内气压为 4× 10 - 3Pa ;沉积时沉积室内气压为 8× 10 3～ 9× 10 3Pa ,沉积时基片温度为 2 0～ 2 5℃ ;预处理温度为 30 0℃ ;最佳热处理温度为 60 0℃ ;超声雾化器工作频率为 1.7MHz;薄膜沉积速率为 3nm/min。XRD和SEM图分析说明 ,制备的铁电薄膜具有钙钛矿结构     

大机组油路的清洗

我国各大化肥装置的大机组油路或多或少存在着油路不净、流通不畅而严重威胁装置安全运行的事例。本文着重介绍了合成氨装置大机组公用油系统油路的清洗方法、步骤及效果等问题,以供借鉴。     

环氧化SBS胶粘剂的研制

研究了环氧化SBS橡胶胶粘剂的合成及应用。试验结果表明环氧化SBS胶粘剂在粘接极性材料时的性能要优于SBS胶粘剂。     

陶瓷原料中SiO_2的钼酸银沉淀法测定

通过实验,发现络合滴定用的指示剂——偶氮胂—Ⅲ,可用作本测定中的沉淀滴定指示剂。根据标准 AgNO_3溶液同 MoO_4~(2-)的定量反应,计算出以硅钼黄 Hg[Si(Mo_2O_7)_6]形式存在的MoO_4~(2-)量,再据以算出硅酸盐中 SiO_2的含量。     

台湾化学工业概况

介绍了台湾几家同业公会和化工企业以及台湾工业研究院所、化学研究所的基本情况，谈了几点收获。     

化工投资重点应在大型企业

本文分析了１９９３年化工百强企业的经济状况，提出化工投资重点应放在大型企业。     

CAD在化工装置设计中的应用及效果

当今，化工设计已普遍采用ＣＡＤ技术，覆盖面越来越广并贯穿于全过程。本文将简单介绍其实用情况和效果。     

Effects of buffer layer materials and process conditions on growth mechanisms of forming networks of SWNTs by microwave plasma chemical vapor deposition

This study investigates the growth mechanism of IC compatible processes and to the feasibility of synthesizing networks of single-walled carbon nanotubes (SWNTs) at lower temperatures (610 °C) on Si wafer using microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) with CH₄ and H₂ as source gases. The effects of the buffer layer materials (ZnS–SiO₂, Al₂O₃, AlON, and AlN ) and process conditions on growth of carbon nanostructures with Co as catalyst were also examined, where the buffer layers and Co catalyst were deposited in sequence by physical vapor deposition (PVD), followed by H-plasma pretreatment before deposition of carbon nanostructures. Additionally, the morphologies and bonding structures of carbon nanostructures were characterized by field emission scanning electron microscopy (FESEM), high resolution transmission electron microscopy (HRTEM), and Raman Spectroscopy. Analytical results demonstrate that networks of SWNTs are more favorable to be synthesized by selecting proper buffer layer material (e.g., AlON), and under higher temperatures, thinner catalyst thickness (e.g., 5 nm) and lower CH₄ / H₂ ratio (e.g., 5 / 100 sccm/sccm). The networks of SWNTs can be fabricated at temperatures as low as 610 °C by manipulating these parameters. In conclusion, the growth mechanism determines the conditions for the formation of nano-sized extrusions on catalyst particles surface.