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新型中压固态切换开关的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
固态切换开关(SSTS)利用大功率电力电子技术和基于微处理器、光纤通信和数字信号处理的测控技术,是解决敏感和关键负荷电力供应最经济有效的手段之一。该文在了解和对比国外SSTS技术和产品的基础上,提出了基于晶闸管和高速机械开关技术的设计方案。这种混合式开关结合了机械开关和电力电子开关各自的优点。正常情况下线路电流通过机械开关,晶闸管只是在切换期间才投入运行。这种混合式开关几乎具有和机械开关一样的效率,具有很好的工业应用前景。该文建立了机械开关和晶闸管换流过程的数学模型,分析了影响换流时间的因素。采用PSCAD/EMTDC软件建立了SSTS仿真模型,对整个切换过程进行了理论分析和仿真研究。最后介绍了SSTS工程样机的研制。仿真和试验结果验证了主电路和控制系统方案的可行性。 相似文献
953.
结合工程实践,全面地描述了水口水电厂机组、主变的状态监测与诊断分析系统,包括总体目标和设计原则,系统总体结构,监测范围和测点布置,软件系统组成,系统的主要功能及应用。 相似文献
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955.
在半导体器件理论的基础上,对一维PN结器件模型的方程组进行线性化,并求出其数值解,为分析稳态条件下PN结器件一维模型提供了一种新的数值解法. 相似文献
956.
S=2的单轴各向异性横向Ising模型的基态磁性质 总被引:3,自引:0,他引:3
对处于外界横向磁场中,单自旋S=2的具有单轴各向异性场的Ising铁磁体模型,采用平均场理论(MFA),基于Bogoliubov不等式,以Gibbs自由能为判据,推导出系统基态磁矩及自由能的理论公式,重点考察了单轴各向异性场D和横场Ω对自旋系统基态磁化曲线及自由能的影响,并且从磁化曲线可观察系统一阶、二阶相变的特征。研究发现随着单轴各向异性场和横场的变化,磁化曲线可分成3种:系统的磁矩由2跃变到1,发生一阶有序-有序相变;系统的磁矩由2或1跃变到0,发生一阶有序-无序相变;系统的磁矩由2或1平滑地变化到0,发生二阶有序-无序相变。在m-D/(zJ)基态磁化曲线中随着Ω的增加,系统的磁矩由2到1,1到0的一阶相变现象相继消失;同样在m-Ω/(zJ)基态磁化曲线中随着D的增加,也相继消失。通过对基态自由能曲线的分析还发现当Ω增加或D增加时,自由能总是呈下降的趋势。 相似文献
957.
958.
959.
Y. Gomeniuk A. Nazarov Ya. Vovk Yi Lu O. Buiu S. Hall J.K. Efavi M.C. Lemme 《Materials Science in Semiconductor Processing》2006,9(6):980
Metal-oxide-semiconductor capacitors based on HfO2 gate stack with different metal and metal compound gates (Al, TiN, NiSi and NiAlN) are compared to study the effect of the gate electrode material on the trap density at the insulator–semiconductor interface.C–V and G–ω measurements were made in the frequency range from 1 kHz to 1 MHz in the temperature range 180–300 K. From the maximum of the plot G/ω vs. ln(ω) the density of interface states was calculated, and from its position on the frequency axis the trap cross-section was found. Reducing temperature makes it possible to decrease leakage current through the dielectric and to investigate the states located closer to the band edge.The structures under study were shown to contain significant interface trap densities located near the valence band edge (around 2×1011 cm−2eV−1 for Al and up to (3.5–5.5)×1012 cm−2 eV−1 for other gate materials). The peak in the surface state distribution is situated at 0.18 eV above the valence band edge for Al electrode. The capture cross-section is 5.8×10−17 cm2 at 200 K for Al–HfO2–Si structure. 相似文献
960.