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101.
论述了普通胶辊表面不处理的性能特点和存在问题,技术措施和合理工艺参数,提高了成纱条干水平,减少缠绕和磨损。 相似文献
102.
化学成分和固溶温度对1Cr17Mn9Ni4N不锈钢组织和性能的影响 总被引:3,自引:1,他引:2
为提高1Crl7Mn9Ni4N钢固溶处理后的力学性能(特别是钢的强度),研究了化学成分及固溶处理温度对其组织和性能的影响。结果表明,1000—1125℃固溶处理后,该钢的组织为单相奥氏体。在标准成分范围内,随着镍、锰含量的增加,该钢的强度降低,塑性有所改善。氮明显提高该钢的强度。根据试验结果,每增加0.01%的氮钢的室温强度可提高大约5MPa,且塑性基本上不受影响。当合金成分(质量分数,%)控制在C0.08—0.12、Crl6.5—17.5、Ni3.5—4.2、Mn8.0—9.0、N0.22—0.28时,1Crl7Mn9Ni4N钢经1050—1100℃固溶处理后强度较高、塑性好,室温强度σ0.2和σb可分别达到400MPa和800MPa。 相似文献
103.
104.
Magnesiumandmagnesiumalloyshavebeenin vestigatedashydrogenstoragematerialsforseveralde cadesbecausefarmorehydrogenbyweightcanbestoredinthemthaninmostoftheothercurrentlyknownhydrogenstoragealloys .Moreover ,thehighnaturalabundanceofMg ,itslightmassandenviron mentalcompatibilitypotentiallymakemagnesiumoneofthemostprospectivecandidatesforfuturehydrogenstoragematerials .Unfortunately ,thepracticalappli cationofMganditsalloyshasbeenlimitedonlytocertainstoragedevicebecauseoftheirpoorhydriding dehydr… 相似文献
105.
The influence of the substrate nature on the structure and morphology of ITO thin films grown by thermal evaporation in vacuum is investigated. The as-prepared metal films with Sn/In molar ratio of 0.1 were subsequently annealed for 2 h at 723 K in air (to obtain tin doped indium oxide), then annealed in vacuum at 523 K, followed by UV irradiation (to reduce the electrical resistivity). Irrespective of substrate nature, XRD data evidence a (222) preferential orientation in films. Substrate nature, annealing in vacuum and UV irradiation influence the structure, morphology, optical, electrical and surface wetting properties of the films' surface. 相似文献
106.
Sintered Nd-Fe-B magnet was manufactured by advanced equipment via a SC (Strip casting) technology.It has integrative performance. 相似文献
107.
本文研究了纤维体积分数对三维编织芳纶纤维增强铸性尼龙(简称K3D/MCPA)复合材料力学性能的影响。研究表明,K3D/MCPA复合材料有优异的抗冲击性能,冲击强度比三维编织芳纶纤维增强铸性尼龙(简称C3D/MCPA)和纯基体均有大幅度的提高,且随着纤维体积的提高而升高。K3D/MCPA复合材料剪切强度随纤维体积比的增大而增大,其纵向剪切强度低于纯基体和C3D/MCPA复合材料,但其横向剪切强度高于它们。K3D/MCPA复合材料弯曲强度与弯曲模量随纤维体积比的提高而提高,但与相同体积比的C3D/MCPA相比,K3D/MCPA的弯曲强度与弯曲模量均较低。 相似文献
108.
109.
110.
M. Liu Q. Fang G. He L.Q. Zhu S.S. Pan L.D. Zhang 《Materials Science in Semiconductor Processing》2006,9(6):876
High-k HfOxNy thin films have been grown by radio frequency (rf) reactive sputtering of metal Hf target in N2/Ar/O2 ambient at different substrate temperatures. The chemical compositions of the films have been investigated as a function of substrate temperature by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). XPS measurements showed that nitrogen concentration increases with an increase in substrate temperature. Room-temperature spectroscopic ellipsometry (SE) with photon energy 0.75–6.5 eV was used to investigate the optical properties of the films. SE results demonstrated that refractive index n increases with an increase in substrate temperature. Based on TL parameters which were obtained from the best fit results used in a simulation of the measured spectra, meanwhile, we conclude that the energy band gap (Eg) decreases with an increase in substrate temperature. 相似文献