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以氯化钐为起始原料,采用溶胶-凝胶法在玻璃和Si(100)基板上制备了Sm2O3光学薄膜,在300~800℃对薄膜进行1~3 h热处理.采用X射线衍射、原子力显微镜和紫外-可见自记式分光光度计等对薄膜的结晶取向、显微结构和光学性能进行了表征.结果表明:Sm2O3薄膜在玻璃基板和Si(100)基板上均表现出沿(311)晶面定向生长的特征;Si基板更有利于生长致密而且结晶良好的薄膜;所制备的薄膜对紫外线有强烈吸收作用,而对可见光有较好的透过作用,随着热处理温度的升高,薄膜结晶性变好,取向性增强,光吸收性能增强,薄膜的禁带宽度减小. 相似文献
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胶合滤光棱镜主要是用来让不同波段的光谱或透射或反射以达到在一系列波段中选取所需要辐射波段的目的,其在两光路及以上的综合光电系统改善像质方面应用广泛,但是实际工艺加工中对于大陡度的胶合滤光棱镜膜系由于膜层厚度误差累积效应,经常在陡度附近透射波段出现“塌峰”现象,严重影响胶合滤光棱镜的实际光谱性能。阐述了光学薄膜透射率控制膜层厚度停止点的原理、镀膜机直接光控结构、胶合棱镜与光控片监控波长换算公式,并利用ARES1350镀膜机直接光控系统光控片监控胶合棱镜滤光膜系,提高了膜层厚度的控制精度,修正了膜层厚度的误差累计,达到了所制备膜系在790~825 nm, Ravg≥95%,895~935 nm, Tavg≥95%的滤光技术指标要求,膜层质量满足JB/T 8226.8—1999检测标准,为该类大陡度胶合滤光棱镜陡度附近透射率的控制提供了新的工艺方法。 相似文献
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提出了一种确定单层薄膜的光学常数和几何厚度的计算方法。通过讨论基于Fresnel的光学解析式,采用复合形法拟合分光光度计测得的反射率曲线,获得最优化的薄膜光学常数和厚度。然后采用此方法对理论模型薄膜加以验证,所得光学常数和厚度的最优解具有很好的一致性。此方法消除了单纯形法求解过程中存在的顶点退化问题,在整个优化求解过程中不需要初始值的输入,又由于考虑了约束条件,增加了显式和隐式方程约束,大大简化了计算和搜索范围,提高了收敛速度和计算精度。 相似文献
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基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试。测试结果表明:所研制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜,其膜层强度、附着性、耐腐蚀性以及光学性质都比常规热蒸发工艺所制得的薄膜有明显改善。 相似文献
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