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一、引言 金属有机化学气相淀积法(简称MOCVD法)是1968年由H.M.Manasevit等首先提出的。该法以挥发性金属有机物和气态的非金属氢化物作为源材料，采用与硅外延淀积相类似的生长装置，进行化合物半导体的外延淀积。 相似文献
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一、研究的目的、意义和指导思想七十年代初丹麦化学家J.菇奇卡和E.H.汉森创建了流动注射分析技术(简称FIA)。它和传统的湿法化学分析相比其特点在于检测的瞬间,即达不到物理平衡,也达不到化学平衡。这种对静态湿法分析理论上的突破,为测量赢得了时间。同时流动注射分析原理和检测器性质的相容性为 FIA 技术和各种检测技术、操作技术联合运用提供了可能性。因此,FIA 技术的出现可以看成是分析手段的一种变革。 相似文献
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如果碳氢化合物的氢原子部分或全部被卤素(氟、氯、溴、碘)取代，就称之为卤代烃。现在，这类碳氢化合物在半导体元件等离子蚀刻工艺中得到了广泛的应用。但是，在等离子工艺产生之前，化学工业已给这类化合物规定了标识号码，如氟里昂-14中的“14”。这类标识号码是其化学名称的简写符号，但在微电子学领域里，了解这一点的人寥寥无几。 相似文献
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在易燃易爆化学物品这个大家族,除了像冰醋酸等少数品种怕冷不怕热之外,大多数化学危险物品都惧怕高温高热。每到炎热季节,危险品事故就比较突出。因此,在高温季节,必须认真做好化学危险物品的防热降温工作,以确保安全。 相似文献
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