陶瓷表面化学镀的前处理工艺新进展

综述了非金属表面化学镀前处理工艺的现状和发展，对陶瓷化学镀的粗化和活化工艺的新进展进行了评述，侧重讨论了离子型、胶体钯型、浆料型、分子自组装吸附钯型、贱金属型活化工艺特点和进展，并展望了今后发展方向。     

论从模拟到数字时代技术保障工作的渐变及应对策略

在广电领域,由于电视节目的时效性和我国制、播安全始终被放在一个相当重要的高度,技术保障工作成为电视生产、播出流程中不可或缺的重要组成部分。由于时代发展和技术进步,技术保障工作的内容和形式正发生着深刻的变化,本文力图通过对这一演变趋势的剖析,以应用实例为锲入点,总结出相应的应对策略,从而建立起更加顺应时代要求的技术保障体系。     

视频监控和无线网络的融合

视频监控是直观方便．内容详实的信息记录方式，并可以为监控操作人员提供实时监控手段。视频监控成为公共安全、企业安全、国土安全。甚至包括社区．家庭安全等领域的必要手段。 目前的视频监控系统，正处于从模拟视频监控向数字化视频监控方式的转型过程中。沿用模拟视频监控或由模拟视频监控升级为数字监控并采取有线连接的方式。为目前监控系统转型过程的初级阶段。采用数字化视频监控并采取无线连接的方式。将迅速加快视频监控方式的转型过程。     

基于手写笔的多功能电子白板系统的实现

该文针对当前电子白板系统对个性化支持的不足,引入手写笔作为输入设备,充分利用其功能参数,设计开发了具有模拟毛笔、钢笔、铅笔等真实笔特征的多笔型功能的电子白板系统。     

从微型装置到规模生产

现代化学工艺越来越多地使用浓缩液体作为降低成本的一种方法，这就要求所使用的泵除了具有实际的计量功能之外，还满足其他的一些特殊要求。这些泵应当设计灵活，能够满足工艺发展的需要，同时它们还结实耐用，维修量少，为生产提供满意的在线服务。     

基于模式理论光栅椭偏参数反演的数值模拟

将一种广泛用于求解系统优化问题的方法——正单纯形法，求解光栅的椭偏方程。首先，利用求解光栅的傅立叶模式理论对TE和TM波的复反射系数进行求解。然后计算出其相应的椭偏参数(△，Ψ)，并在该值的基础上加入不同偏差的随机高斯噪声，将加入噪声后的值(△m，Ψm)作为模拟测量值。最后使用优化算法进行反演。通过对几种常用面形光栅椭偏参数的数值模拟，一方面表明傅立叶模式理论计算光栅的椭偏参数不仅精度高。而且速度快；另一方面表明利用正单纯形法得到的光栅参数值很接近于正演时假设的参数值，从而从理论上证明了利用椭偏法测量光栅各种光学参数的可行性。     

机械力化学作用对低介硅灰石瓷料的相变和相组成的影响

采用X射线衍射仪(XRD)、差热分析(DTA)手段详细研究了由氧化物粉末制备硅灰石陶瓷时,机械力化学作用及后续热处理对硅灰石陶瓷相组成和相变过程的影响,分析了机械力化学在球磨过程中的作用机理主要是细化晶粒、使晶格畸变、晶格缺陷增多、非晶化和诱导低温化学反应。结果表明:高能球磨中的机械力化学作用能够有效地降低硅灰石陶瓷的烧成温度(11160~11220℃)。探明了经高能球磨的样品在烧成过程中的晶相转变规律。瓷料最终的晶相为单一的-硅灰石(高温变体)。     

化学复合镀层激光处理研究

研究了激光处理对Ni-P -SiC化学复合镀层的影响。借助于扫描电镜、能谱仪、X射线衍射、显微硬度计等设备对激光处理后复合镀层的表面形貌、组织结构及性能进行了综合分析。结果表明 ,对复合镀层进行激光处理可以获得与炉内加热同样的镀层硬度 ,且当激光功率 4 0 0W ,扫描速度 1.5m /min时 ,镀层硬度高于炉内加热的硬度     

PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究

在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径＞100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后，沉积速率提高了近10倍。分析认为，在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3)，而不可能是SiHn(n≤3)基团。