缓解夏季城市热岛效应的数值模拟研究

利用AUSSSM TOOL软件，对几个典型的小区热环境进行了数值模拟．结果表明，通过增加绿地面积、减少人为热排放以及增大各表面太阳辐射反射率，能够明显缓解小区的热岛效应，小区日平均气温可降低1．5～2．9℃，最高气温则可下降4．6℃．     

用X射线反射测量法表征双层结构中 低原子序数材料的特性

介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm³,沉积速率为0.058 nm/s。     

光纤端面多层膜反射率的干涉测量方法研究

应用干涉法实现光纤端面多层透明膜系反射率的测量，利用镀有反射膜的待测光纤端面，构成F－P干涉仪，根据透射光谱的自由谱宽和干涉峰的半宽值，计算出膜系反射率，可直接获得光纤端面上薄膜的真实反射率，并避免了光源波动对测量结果的影响，在用反射率为92％－98．6％的膜系所进行的实验中，测量误差小于－0．09％，分析了误差来源。     

色差公式研究现状探讨

1引言色差公式有色商品生产的质量控制中的重要工具,它们提供了不同有色材料之间刺激差(光谱反射率函数差)的预测结果。自从Hermann von Helmholtz在1896年首次提出色差公式的概念[1],迄今为止已经出现了上百个公式,如今一些公式广泛用于工业生产中,并且已经被国家或国际标准化。     

基于煤岩显微组分对各类主要炼焦煤性质的分析

选取常用炼焦用煤(1/3焦煤、肥煤、焦煤)测定其显微组分,活惰比,最大流动度,镜质组反射率,结果表明,1/3焦煤相对于其他焦煤含稳定组组分最多,肥煤矿物质含量最多;焦煤和1/3焦煤的镜质组反射率值界线分明,焦煤和肥煤的活惰比与镜质组反射率成正比,与最大流动度成反比,而对于1/3焦煤,该趋势不明显。     

基于激光积分球反射计的集成黑体发射率测量研究

集成黑体发射率是评价其有效光谱辐射亮度不确定度的关键贡献项。建立了激光积分球反射计测量系统,对中国计量科学研究院制备的集成空腔的法向光谱发射率进行了实验研究和模拟验证。在633nm的波长下测量了集成黑体法向光谱发射率,测量结果的标准不确定度优于0.043%。结果表明:集成黑体辐射源在室温条件下的有效发射率高于0.998,与STEEP3蒙特卡罗模拟计算结果偏差在0.04%之内。实验结果与数值模拟的一致性在测量结果不确定度内吻合良好,验证了激光积分球发射计法用于评价集成黑体发射率的可行性。     

等效相移光栅反射光谱特性的研究

等效相移光栅的原理是,通过对取样光纤布拉格光栅在特定点进行毫米尺度的“位移”,经过傅里叶变换,在各频率通道产生“等效相移”。首先利用光栅的Turan传输矩阵进行数值模拟,验证了真实相移光栅的各种性质在等效相移光栅中的实现,然后针对当前关于等效相移光栅的报道中,-2级光栅反射率都很低,并且没有出现“等效相移”的情况,提出了一种实现-2级等效相移光栅的方法,并进行了仿真验证。最后给出了等效相移光栅反射率随长度变化的曲线。     

紫外-真空紫外光谱反射率测试系统

为获取紫外 真空紫外光学元件的光谱反射率,构建了一套反射率测试系统。该反射率测试系统主要由Seya Namioka紫外 真空紫外单色仪、样品精密转台为主体的光机结构和电子学系统组成。首先,介绍了系统测量原理,采用双光路补偿法消除了光源随时间的飘移,通过改变系统光路进行两次测量来获取反射光与入射光数据,进而得到光谱反射率。接着对电子学硬件系统进行描述,给出了驱动控制单元与信号处理采集单元的硬件设计与组成。因紫外 真空紫外光谱信号微弱,采用了锁相放大的方法提高了测量精度。该反射率测试系统测试结果表明波长重复性0.05 nm,反射率测量重复精度为1.8%,系统功能完备稳定性好,能够实现对光学元件的高精度测量。     

端面反射率对单端反射半导体光放大器的影响

本文考虑了光子密度、增益谱色散、放大自发辐射噪声(ASE)、端面反射率和载流子浓度对折射率的影响,并采用细化分段法及四阶龙格-库塔法求解速率方程及光场传输方程,分析了不同端面反射率时单端反射半导体光放大器(RSOA)的动态特性。结果表明端面反射率的适当增加,可以使增益得到提高,增益恢复时间减少, ASE输出功率增加,消光比下降。理论分析为优化RSOA的动态特性具有一定的指导意义。     

微棱锥阵列薄膜UV压印成型及光学特性研究

采用UV压印固化成型的方法制备具疏水性的微棱锥阵列减反薄膜,并设计正交试验探究了各工艺对其微观结构成型的影响,得到复形度高的微棱锥阵列薄膜的优化方案(压强0.5～0.8 MPa,充型时间30 s,光固化时间1 min).通过对其减反性能分析,所制备的微棱锥阵列薄膜比无织构的平膜加权反射率低5％,分析各影响因素发现抑制气泡缺陷,并控制微棱锥特征结构参数高度和侧面夹角精度可使微织构薄膜减反能力相比提高21％,同时织构膜水滴接触角表明其具有自洁性.