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51.
紫砂壶创作三要素,一,紫砂泥是紫砂壶最根本的基因;二,紫砂壶的造型艺术是外在美的表现;三,紫砂壶的工艺技法是文化,是紫砂壶的内涵文心。 相似文献
52.
Jeff Butterbaugh 《集成电路应用》2006,(8):51-51
在集成电路(IC)制造中,需要多次重复去除掩模用光刻胶这一步骤,因此清洁、高效地去胶工艺非常重要。90nm高性能逻辑器件的制造过程使用超过30次光刻工艺。从晶圆表面去除光刻胶的能力在很大程度是由光刻胶性质和工艺历史决定的。在离子注入工艺中,图形化的光刻胶起掩模的作用,特别难以清除。大剂量的离子注入(〉1×l014ions/cm^2)将光刻胶表面脱氢并高度交联,其性能很像非晶碳。改性光刻胶的厚度由注入剂量、注入能量和注入离子种类决定。 相似文献
53.
环氧基负性光刻胶加工微结构的试验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在正交试验的基础上,将BP神经网应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型,该模型采用三层前向网络,学习算法为梯度下降法。通过实验,得出:前烘温度与前烘时间对光刻质量影响最大,对120~340μm厚的光刻胶,前烘温度取90℃,前烘时间50~100min时,图形的相对线宽差最小;最佳后烘时间(85~95℃)为30min;超声搅拌能缩短显影时间,改善图形质量。试验结果与网络预测结果吻合。结果表明,将BP神经网络应用于UV-LIGA技术中,可以优化光刻工艺。 相似文献
54.
通过对碎矿工艺进行技术改造,选用技术性能优良的碎矿设备,降低了碎矿产品粒度,使球磨机处理能力提高19%,提高了选矿厂经济效益。 相似文献
55.
本介绍了汽车散热器芯子烘焊自动线优化控制系统的设计方案,提出了双重优化控制方法,即先借助正交试验建立各种型号散热器的工艺参数模型库,生产中再依靠质量、能耗指标进行修正,及时调整控制过程参数。实际运行表明:生产质量大大提高,能耗显降低。 相似文献
56.
陈建伟 《青岛大学学报(工程技术版)》1997,12(4):34-37
上报提出了一种利用水溶性PVA长丝进行经纱上浆新工艺。本文着重论述PVA长丝的纤度和上浆速度对上浆效果的影响。 相似文献
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