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41.
评述了ISO 5 75 5“烧结金属材料—规范”和美国MPIF标准 35的变迁和趋向统一。阐述了“最小强度值”的意义。说明了我国粉末冶金结构零件材料标准的现状  相似文献   
42.
43.
44.
45.
为研究静电放电电磁脉冲对电子系统的影响,进行了静电放电电磁脉冲对单片机系统的辐照效应实验。实验表明,单片机系统在ESD EMP作用下,会出现“死机”、重启动、通讯出错和数据采集误差增大等现象。在实验基础上,研究了对ESD EMP的加固方法。  相似文献   
46.
47.
48.
功率电子器件用AlN陶瓷基板的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
阐述了AlN陶瓷的烧结原理 ,分析了烧结工艺参数对大面积AlN基板性能的影响 ,成功研制出了高热导率(190W /m·K)、大面积 (14 0mm× 90mm)、翘曲度为 2 0 μm/5 0mm的AlN陶瓷基板。  相似文献   
49.
零零 《照相机》2002,(9):55-55
最近的报刊杂志上偶尔有人提到HMI,什么是HMI?也许很少有人知道。HMI是目前国际上刚刚流行的一种新型的摄影与摄像通用的人造光源。 由于科技发展.技术的进步,对于摄影用的照明灯具也在不断发展.现代的好器材替代过时的老产品势在必行。HMI就是国际上最新推出的一种也许可以替代或者部分替代影室闪光灯的新型人造光源。HMI到底有什么优势,我们在以下的内容中作一些探讨。  相似文献   
50.
以Zn(C2 H5) 2 和CO2 为反应源 ,在低温下用等离子体增强化学气相沉积方法 ,在Si衬底上外延生长了高质量的ZnO薄膜。用X射线衍射谱和光致发光谱研究了衬底温度对ZnO薄膜质量的影响。X射线衍射结果表明 ,在生长温度为2 3 0℃时制备出了高质量 ( 0 0 0 2 )择优取向的ZnO薄膜 ,其半高宽为 0 2 6°。光致发光谱显示出强的紫外自由激子发射与微弱的与氧空位相关的深缺陷发光 ,表明获得了接近化学配比的ZnO薄膜  相似文献   
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