硅的等离子体深腐蚀

湿法化学腐蚀已被广泛地应用于敏感器件传感结构的微细加工中.近年来,在VLSI中等离子体干法腐蚀已成为获得细线条图形的可行技术.然而,干法腐蚀工艺无论是等离子体腐蚀或反应离子腐蚀,相对于湿法腐蚀来说都是比较慢的.在需要深腐蚀的应用中(如电子束光刻的对准符号刻蚀,电路隔离槽或敏感器件的微细结构腐蚀)当前都着力提高腐蚀速率.在传感器的开发中,主要问题之一是封装,为简化到处于测量环境的传感器的外部连接,希望通过传感器背面进行连接.在化学传感器中,背面连接最为有利.因为假如所有的引线都     

部分种子成分的特征X射线在等效生物材料中衰减的测定

用Ｓｉ（Ｌｉ）探测器实现了Ｎａ、Ｍｇ、Ｓ、Ｃｌ的特征Ｘ射线在有机膜中的相对衰减以及与Ｏ、Ｋ元素的特征Ｘ射线能量相当的Ｘ射线或轫致辐射在有机膜中的相对衰减，分别得出了它们减的数学描述，并把实验得到不同能量的Ｘ射线在有机膜中的质量吸收系数与Ｂｅｒｋｅｌｅｙ的ＯＣＧ软件计算出的结果相比，相关都小于３０％。