无压烧结Al2O3/Si3N4纳米复合陶瓷的力学性能

本文对Al2O3／Si3N4体系进行无压烧结。获得试样相对密度大于98％，采用物相分析，烧结体中并没有Si3N4颗粒存在而是形成SIALON相。Si3N4和Al2O3反应生成的β-SIALON相颗粒不仅分布在Al2O3晶粒晶界处也存在于Al2O3晶粒内部，形成独特的“内晶型”结构。当受到外力时既能诱发穿晶断裂，又能引起裂纹偏转，从而起到增强的作用。由于产生晶界滑移，韧性有所下降。     

硼酸镁晶须的合成研究

报道了硼酸镁晶须的合成研究结果。硼酸镁晶须是一种性能价格比高的晶须产品，利用熔盐法合成出长10—50μm、直径0．5—2μm的硼酸镁晶须。还就硼酸镁晶须增强复合材料的研究和硼酸镁晶须工业化的前景作了展望。     

磨加工及残余应力对氮化硅陶瓷强度的影响

利用X-射线衍射方法测量了经不同磨削的氮化硅陶瓷表面残余应力及其对抗弯强度的影响。结果表明，磨削工艺所引入的残余应力是拉应力，对陶瓷抗弯强度有显著降低。     

氮化硅陶瓷高温摩擦学性能

本文研究热压氮化硅陶瓷与３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ钢组成的销－盘摩擦副，在空气中非润滑条件下，４００～８００℃不同载荷（４９～３４３Ｎ）的摩擦磨损性能；测定了磨擦系数和Ｓｉ３Ｎ４销的磨损因子；通过对Ｓｉ３Ｎ４磨损面的ＳＥＭ形貌观察、Ｘ射线相结构分析，探讨了陶瓷销的磨损机理     

蒸馏水润滑下Si3N4—灰铸铁摩擦面上表面膜组成的分析及其形成机理…

为考查表面膜的形成过程，在环－块磨损试验机上对Ｓｉ３Ｎ４－灰铸铁对偶进行不同摩擦路程的磨损试验，在ＳＥＭ下观察灰铸铁试样的摩擦面。用ＡＥＳ，ＸＰＳ，ＦＴＩＲ和ＸＲＤ分析了表面膜的成分、组成与结构，并对其形成机理进行了初步探讨。结果表明，Ｓｉ３Ｎ４在水润滑下，摩擦面上发生了氧化和水解反应；而当Ｓｉ３Ｎ４与灰铸铁配对时，由于石墨对Ｓｉ３Ｎ４氧化和水解产物的吸附，致使摩擦面形成具有一定厚度和面积的含石墨     

高档发优质反应结合氮化硅结合碳化硅窑具的制备

本文研究了高档优质Ｓｉ３Ｎ４结合ＳｉＣ窑具的工艺过程，并且论述了制备这处高档优质窑具的工艺参数。     

粒子弥散强化氮化硅基陶瓷

运用晶界工程理论，选择能形成高耐炎度晶界相的Ｙ２Ｏ３和Ｌａ２Ｏ３双稀土氧化物为Ｓｉ３Ｎ４陶瓷烧结助剂，材料具有优异的高温强度。第二相碳化硅粒子的引入有效地改善了氮化陶瓷的显微结构和力学性能。以无压烧结工艺制备的高性能α／β－Ｓｉａｌｏｎ复相陶瘊等在实际应用中获得良好效果。     

热压氮化硅在1200℃的高温疲劳损伤

研究了热压氮化硅陶瓷的室温和高温力学性能及在１２００℃的高温疲劳损伤行为，发现材料的弹性模量、抗变强度与断裂韧性均随温度升高而下降，但在１０００℃以上降低最为显著。在１２００℃高温疲劳寿命与应力之间符合单对数线性关系经分析发现这种现象与失效的热激活过程有关。通过对实验数据，ＸＲＤ相结构、变形动力学过程和断口的微观分析证明，陶瓷高温疲劳失效机理为“杂质空穴复合作用机制”。对热压氮化硅来说，失效机理主     

压痕残余应力对氮化硅基复合材料阻力曲线行为的影响

通过压痕小裂纹直接量测法获得了ＴｉＣ，ＴｉＮ／Ｓｉ３Ｎ４复合材料的阻力曲线，采用更具合理性的指数经验公式拟合处理实验数据，初步探讨了Ｋ∞，Ｋ＾＊Ｒ，ΔＣ，等参数的物理意义。对压痕残余应力消除前 实验结果进行比较，发现压痕残余应力的消除，提高了材料的极限断裂韧性值Ｋ＾＊Ｒ，却大大减少了裂纹稳态生长的容限，使得材料的脆性行为更为突出。     

采用低分子聚碳硅烷气相热裂解制备Si-C-N复合超微粉

本文报道了以低分子聚碳硅烷为反应源物质，以氨气为反应气氛，采用化学气相裂解方法，制备了粒径为0．05～0．1μm的Si－C－N复合相超微粉，考察了各种反应条件对生成粒子性能的影响规律，并探讨了Si-C-N粒子的生成机理。