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4气相沉积技术气相沉积按机理划分,可分为物理气相沉积(PhysicalVapourdisposion)和化学气相沉积(ChemicalVapourdisposion),前者通称PVD,后者通称CVD。4.1PVD法阴极溅射4.1.1阴极溅射的基本原理阴极溅射就是在真空的条件下,用荷能粒子轰击某一靶材(阴极),使靶材表面原子以一定的能量溅出,然后在机件表面沉积的过程,图4-1是阴极溅射系统简图。靶是一平板,由欲沉图4-1阴极溅射系统简囤积的材料组成,将它与电源的负极相联(阴极)。固定装置可以接地、悬空、偏置、加热、冷却。真空槽中充入1.33×10Pa~1.33×10-1Pa的… 相似文献
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铝在烷基苯电解质中的电沉积 总被引:2,自引:0,他引:2
总结了烷基苯中电沉积铝的工艺发展及存在的问题,对基础研究的总结重点放在电解质电导率、粘度、密度的变化规律,溶质、溶剂分子间的反应以及阴极极化的研究结果上,并从理论的角度提出了改进措施。 相似文献
43.
The amorphous/polycrystalline Si3N4/CrN nancrstructured multilayer films have been prepared by radio frequency (RF) reactive magnetron sputtering. The composition, microstructure and mechanical properties of these films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and nano-indentation. The CrN and Si3N4 single layer films are polycrystalline face centered-cubic and amorphous structures, respectively. The CrN and Si3N4 layers are nearly stoichiometric. The HRTEM image indicates that the interfaces are planar and modulation structure is clear in multilayers. The hardness values of Si3N4/CrN multilayers are between those of the constituent CrN and Si3N4 films at a substrate temperature of 20℃, and are somewhat higher than those of Si3N4 films at a deposition temperature of 500℃. There is no superhardness effect in the Si3N4/CrN multilayers. Based on the experimental results, the hardening mechanisms in the multilayers have been discussed. 相似文献
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本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的化学成份和表面状态。考察了基体材料对薄膜应力的影响。在此基础上,对薄膜内应力的形成机制进行了分析讨论。 相似文献
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47.
扫描电子显微研究表明,化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加,晶粒逐渐变大,且每一层内,存在少量的大金刚石颗粒,讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。 相似文献
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应用扫描电子显微镜对电沉积Cu/NiCu多层膜结构的表征张伟1薛群基1王友良2赵家政1(1.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放室,兰州7300002.兰州大学材料系)近年来,由两种不同金属交替构成的多层金属复合膜的研究引起了人们极大的关注。发现... 相似文献
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50.
沥青质沉积问题文献综述 总被引:3,自引:0,他引:3
沥青质沉积问题文献综述李美霞前言在石油的生产、加工和储运过程中,沥青质沉积问题越来越受到人们的重视,目前已成为石油工业中需重点研究和解决的技术问题之一。在石油炼制过程中,将重质原油转为轻质燃料是石油研究领域的一个重要课题。在该转化过程中,沥青质不仅因... 相似文献