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91.
镍钴合金镀层的电沉积及其耐蚀性的研究 总被引:13,自引:4,他引:9
研究了Ni-Co合金的电积过程,讨论了电镀工艺条件的改变对合金镀层钴含量的影响。实验结果表明,选择适当的阴极电流密度、电解液温度和镀液PH值等,可以获得表面光洁、平整和致密的耐蚀性能比镍镀层更好的合金镀层。 相似文献
92.
93.
采用离子束增强沉积(IBED)技术,在不同能量氮离子的轴助轰击下制备了Cr-N薄膜,通过SEM观察、XRD分析和显微硬度测定,发现离子轰击能量对Cr-N薄膜的表面形貌、相组成和硬度有显著的影响;随着能量的升高,膜表明形貌由岛形颗粒状转变成蜂窝状;一定能量轰击下获得的Cr2N和CrN混相结合有最高的薄膜硬度;高达16keV的氮离子轰击可诱发非晶化的出现,并对膜有一定的强化作用。在此基础上探讨了离子轰 相似文献
94.
离子束辅助沉积技术及其进展 总被引:9,自引:0,他引:9
本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理,主要工作特点,设备及主要影响因素,综 利用该技术在制备各种新膜层方面研究的新进展,并指出该技术的不足及未来发展方向。 相似文献
95.
薄膜生长的计算机模拟 总被引:2,自引:0,他引:2
薄膜技术在现代科技领域中有着广泛的应用。人们对薄膜的生长过程通过理论和实验进行了深入的研究,其中计算机模拟是重要的方法,本文概述了对薄膜生长过程的实验观察结果及其理论分析,主要讨论了薄膜生长的计算机模拟中经常采用的方法-蒙特卡罗法和分子动力学方法、描述衬底上成膜粒子运动的一些模型以及在计算机模拟中需注意的一些问题,其中主要包括粒子间的相互作用,入射粒子的能量和粒子上的衬底上的扩散运动。 相似文献
96.
化学沉积法制备的Ni(P)、Ni(B)纳米薄膜的结构与磁性 总被引:3,自引:0,他引:3
用化学沉积法制备了系列Ni(P),Ni(B)合金薄膜样品,用X射线衍射结构分析方法证明样品由尺寸为纳米量级的颗粒组成,样品在磁性上表现出超顺磁性,对热磁处理前后的磁学参数进行了比较研究。 相似文献
97.
98.
蒋旭峰 《石油化工腐蚀与防护》1998,15(2):11-13
文章综述了南京炼油厂加氢裂化装置主要设备用材及其使用情况,并重点分析了加工高含硫原油后可能产生的腐蚀问题,提出了应采取的措施。 相似文献
99.
制备高强度高导电材料的新途径 总被引:2,自引:0,他引:2
指明了发展高强度高导电率材料过程中存在的主要问题,通过对喷雾共沉积工艺过程的特殊性和高导电材料的强化机制两方面较为详尽的分析,指出采用喷雾共沉积的工艺可望制备出高强度高导电率的材料 相似文献
100.
综述了国外离子束刻蚀和沉积系统的研究进展,指出了离子束系统在半导体技术研究,开发和生产中的重要性。 相似文献