溅射沉积Cu膜生长的Monte Carlo模拟

在本文中,我们建立了一个较完整的基于动力学晶格蒙特卡罗方法的模拟薄膜生长的三维模型,利用该模型我们研究了溅射沉积条件下粒子的沉积角度、沉积速率以及入射能量对Cu膜生长的影响.模拟结果表明Cu膜表面粗糙度会随沉积角度和沉积速率的增大而增大,而相对密度随之减小.模拟的薄膜的三维形貌显示,在薄膜的表面存在着柱状结构,这与实验是相符的.     

功率密度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响

利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为6.7wt%的氧化锌镓陶瓷靶材,在低温下(约40℃)制备了ZGO薄膜.考察了溅射功率密度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响.结果表明:溅射功率密度对薄膜的结构、红外反射以及导电性能有较大影响.当溅射功率密度为3.58W/cm2,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率低达1.5×10-3Ω·cm,方块电阻为23Ω时,可见光(λ＝400nm～800nm)平均透过率高于90%.     

金属合金巨磁阻抗三明治结构多层薄膜研究进展

介绍了金属软磁合金三明治结构多层膜巨磁阻抗效应的研究和应用现状、以及多层薄膜的制备方法和表征手段。最后介绍了磁电阻磁头和磁传感器等的应用情况和对该领域研究的展望。     

镁系储氢薄膜的研究进展

综述了储氢薄膜的研究进展，包括制备方法、制备原理及影响因素。详细介绍了国内外镁系合金薄膜的研究状况，通过分析Mg-Pd，Mg-V，Mg-Ni，Mg-MmNi5复合薄膜的吸氢性能，指出镁系储氢薄膜的理想发展方向应该是寻找一种价格低廉且活性较好的金属元素取代价格较高的Pd、V，采用与其它类活性好的合金复合等方法，获取吸放氢性能优良的储氢薄膜。     

制备工艺对碳纤维增强碳化硅基复合材料结构和力学性能的影响

以化学气相沉积碳为界面层,聚碳硅烷为先驱体,经过10个周期的浸渍-裂解制备了三维编织碳纤维增强碳化硅复合材料(3D-Cf/SiC)。考察了碳涂层高温预处理和陶瓷先驱体第一个周期1600℃裂解对复合材料结构与性能的影响。结果表明:碳涂层高温预处理有助于复合材料密度的提高,弱化了复合材料的界面结合,从而显著提高了复合材料的力学性能,复合材料弯曲强度达到571 MPa,剪切强度51 MPa,断裂韧性18 MPa.m1/2。     

不同底层(Ag, Ti, Cu, Pt)对[Fe/Pt]n多层膜磁性的影响

利用磁控溅射的方法, 在热玻璃基片上制备了[Fe/Pt]n多层膜, 经不同温度真空热处理后, 得到L10有序结构的FePt薄膜(L10-FePt).实验结果表明 [Fe/Pt]n多层膜结构可使FePt薄膜的有序化温度由500 ℃降到350 ℃, 350 ℃退火20 min后其平行膜面矫顽力可达到421.8 kA·m-1.同时以Ag, Ti, Cu和Pt做底层, 利用[Fe/Pt]n多层膜结构制备了FePt薄膜, 磁性和X射线衍射结果表明 与[Fe/Pt]n多层膜相比, 四种底层均没有进一步降低FePt薄膜的有序化温度, 其中Ag做底层对[Fe/Pt]n多层膜退火后的平行膜面矫顽力影响较小, 但能够提高其垂直磁各向异性;其他底层均会降低[Fe/Pt]n多层膜在高温退火时的平行膜面矫顽力, 且对其垂直磁各向异性无改善作用.     

TiB2制备方法及其研究新进展

在介绍TiB2粉末及其薄膜的各种制备方法的基础上，对近年来国内外关于TiB2及相关材料的研究进行了归纳和总结。     

染料敏化太阳能电池的研究进展

本文介绍了染料敏化太阳能电池的基本结构和原理，并对光电极、敏化染料、电解质的研究进展及其发展趋势进行了概述。     

天津新型光伏电池研发取得新突破

据报道，天津南开大学光电子所承担的“低价、长寿命新型光电池基础研究”项目，目前已通过国际和国家标准测试鉴定。其连续20批、总计400平方米非晶硅电池效率全部超过8％，部分高于9％，达到国际同类产品先进水平。取得新的突破。他们面对能源与环保两大挑战，不仅研制出兼有当前国际三大低成本高速沉积技术的辐射型高真空、多功能薄膜自动化沉积系统，使其性能指标达到了国际一流水平。     

GE推出新型绝缘薄膜

日前在京举办的“2005第四届中国国际电源产业展览会”上，美国GE高新材料公司展出了用高性能ULTEM薄膜生产的用于电源的电子绝缘、高温标签、EMI屏蔽、扬声器音膜和导电墨水基材等产品。绝缘材料在电源产业中只占相当小的部分，但一旦绝缘材料发生问题，就会直接影响到电源产品的质量和性能。近年来，GE高新材料一直致力于高性能绝缘材料的研发，