硬脆材料专用ELID磨削液的研制

本文在已有新型通用ELID磨削液(HDMY-20型)的基础上，根据硬脆材料的磨削特点和ELID磨削过程中磨削液的电解修锐生膜缓蚀作用、结合通用ELID磨削液的研制经验．通过增添表面活性剂、稳定剂、防锈剂、油性极压剂和调整无机盐等成分的比例关系．优化出适合硬脆材料ELID磨削最佳状态的专用ELID磨削液。应用此磨削液磨削硬质合金表面粗糙度可达Ra0．007μm比通用型磨削液磨削的硬质合金Ra值降低了0．005μm。     

片膜挤出模结构设计

基于物料在片膜机头中均质流动的原则，考虑了物料分配和压力稳定作用，对片膜机头的流逝结构、歧管类型、阻流调节机构及溢缝现象进行了探讨．     

高纯度Si-Ge系合金靶

一种高纯度Si-Ge系合金靶，其杂质少、成膜时厚膜均匀，此外颗粒的发生少、均匀性和膜组成均衡，溅射性能良好，可得到膜厚均匀、漏电流少的膜特性优异的Si-Ge系溅射膜。该高纯度Si-Ge系合金靶的制造方法，是除去气体成分，在高真空中熔炼、铸造纯度5N（99．999wt％）以上的成为高纯度Si-Ge系合金靶及主成分的高纯度Si及高纯度Ge，制作合金锭，在通过将其粉碎制成Si-Ge系合金微粉末后，烧结该微粉末成合金靶。     

橡胶绝缘层在管道外防腐中的应用

重点介绍了橡胶绝缘层对管道外壁防腐的工艺、施工 要求及与石油沥青的比较，结果认为值得推广.     

Ar^（＋）混合Fe－Dy多层膜的结构及性能SCIEI

用真空双源蒸镀法在Ｓｉ单晶衬底上制备了Ｆｅ，Ｄｙ原子数比为３：２的Ｆｅ─Ｄｙ成分调制多层膜．用ＡＥＳ、ＲＢＳ、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）以及磁性测量分析了Ａｒ^（＋）混合前后Ｆｅ─Ｄｙ多层膜的相交．Ａｒ^（＋）离子注入能量１１０ｋｅＶ，剂量５×１０^（１５）─１×１０^（１７）／ｃｍ~２．结果表明，注入剂量为１×１０^（１７）／ｃｍ~２时，Ｆｅ，Ｄｙ完全混合，并且由晶态的Ｆｅ，Ｄｙ完全转变为Ｆｅ_（６０）Ｄｙ_（４０）（近似于该化学配比）的非晶态合金，随Ａｒ^（＋）注入量的增加，Ｆｅ一Ｄｙ多层膜的Ｍ_ｓ下降，在剂量５０×１０^（１５）／ｃｍ~２时下降幅度最大。     

压入深度与膜厚对薄膜与基体复合硬度及弹性模量的影响

根据高华建的复合弹性模量模型，提出了用一个测点的载荷-位移曲线计算整个压入深度内薄膜和基体复合硬度分布的方法，探讨了压入深度与膜厚对硬度与弹性模量测量值的影响，指出可由膜-基复合性能反推膜本身的性能。     

CVD金刚石膜{100}取向在改进化学反应模型下生长的原子尺度模拟

建立了CVD金刚石膜{100}取向生长过程中的化学反应模型，表面吸附生长机制以沟槽处碳氢组元加入的机制为主，并用改进的KMC方法在原子尺度上模拟了该模型下（100）表面的生长过程，给出了衬底温度和甲基浓度等操作参数对膜质量的影响，结果表明，该化学反应模型能够较实际地揭示{100}取向CVD金刚石膜的生长。     

钌系高阻浆料的电压稳定性

用钌酸铅、钽钌酸铅、钛酸钡、玻璃粉配制电阻浆料，印烧成电阻器，考察短期过负荷性能。结果证明钌酸铅不适于做高阻高压浆料导电相；钽钌酸铅适于做高阻高压浆料导电相；钛酸钡是合适的改性剂。电阻体均匀性对短期过负荷起重要作用。     

4Cr14Ni14W2Mo钢排气阀离子氮化和离子软氮化渗层的分析和探讨

研究了经不同加热温度鍛造、固溶和750℃时效后钢的晶粒度、孪晶、滑移及碳化物的分布;用光镜、扫描电镜、X-射线衍射仪、俄歇谱仪对钢的基体组织、渗层组织、剥落形貌、应力状态及渗层C、N分布分析表;合适的固溶处理是可以消除过热锻造危害的;离子软氮化中,碳并没有渗入;适当降低炉气中氮含量和辉光电流密度及适当提高氮化温度是消除氮化产生剥落的途径之一。