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61.
为开发出高性能生物医用干式电极,提出了利用激光微铣-重铸加工方法,实现了表面具有微结构阵列特征的新型金属干式电极的制造成形。在分析电极表面微观形貌的基础上,研究了电极表面的润湿性能,并重点研究了扫描间距、扫描速度和扫描次数等加工参数对大肠杆菌粘附性能的影响规律。研究结果表明:在一定工艺参数条件下所加工出具有微结构阵列特征的电极的接触角可达150°以上,表现出超疏水的特性。在不同扫描间隙和扫描次数条件下加工出的电极对大肠杆菌的粘附性能具有较大影响,在选择0.1 mm扫描间隙时,电极表面粘附的大肠杆菌数量最少,适当增加扫描次数,也能够有效地减少电极表面大肠杆菌的粘结,从而发挥较好的抗菌效果。通过改变扫描速度加工出的电极则对大肠杆菌的粘附性能影响不大。  相似文献   
62.
在氧化锆球体上用机械球磨法制备铝膜,采用SEM和EDS观察铝膜的显微形貌及成分,分析了铝涂层的形成过程,运用L9(34)正交试验研究了球磨时间、球磨转速和球料比等工艺参数对膜厚的影响规律。结果表明:球磨转速、球磨时间、球料比影响膜厚的极差依次减小;以球磨时间10 h、转速250 r/min、球料比7∶ 1参数制备的铝膜最厚,达到了50 μm,且铝膜结构较致密,含氧量低、纯度高,与氧化锆球体机械结合良好。  相似文献   
63.
利用热致相变法制备了纳米氯化钙/PVDF杂化膜,研究了不同添加量的纳米氯化钙粒子对PVDF微孔膜的膜形态、截留率、水通量以及膜强度的影响。采用响应曲面的分析方法,以PVDF膜的水通量以及膜强度为响应值,确定了最佳的纳米CaCl2粒子的添加量、PVDF的质量分数以及凝固浴温度。结果表明:纳米氯化钙的添加能显著改变PVDF膜的形态结构,随着纳米氯化钙含量的增加,海绵状孔逐渐消失,膜表面出现了大量的界面孔,膜通量以及膜强度先上升后下降,而其对截留率的影响较小,在其质量分数为5%时,截留率以及水通量达到最大值。确定的高强度膜制备工艺条件:CaCl2以及PVDF的质量分数分别为4.7%、44%,凝固温度为49.5℃,该条件下,膜截留率达到了75%,水通量达到了174L·m-2·h-1,膜强度则为29.8MPa。   相似文献   
64.
本文介绍了一种电化学法生产高纯金的工艺及其配套设备,整套工艺可简单分为电化学溶解和电化学沉积两个过程,通过特殊的槽体结构和选择性离子透过膜,使粗金的溶解和金粉的析出在两个槽体中进行,选择性离子透过膜可以阻隔[AuCl4]-通过,使得电化学溶解槽中的Au[Ⅲ]在阳极室富集,溶解完毕后溶解槽阳极室的贵液转移至电化学沉积槽的...  相似文献   
65.
主要介绍LED液晶模组中提升色域的不同方案,结合相关技术的工作原理、试验数据,给出模组应用设计方案,并结合产品本身特性对应用前景进行分析,可以对相关行业人员提升显示产品色域的设计方案有一定帮助,同时也为模组背光广色域方案设计提出了参考,使模组设计更加多元化.  相似文献   
66.
利用高二氧化碳和低氧的条件,结合臭氧处理和可食性涂膜,对草莓进行了贮藏保鲜的研究。2.5%O2+16%CO2结合4.3mg/m3浓度臭氧预处理,并采用可食性膜涂膜,结果货架寿命延长到了8~10d。1#和2#涂膜处理在草莓的贮藏保鲜上优于3#、4#和CK涂膜对照组。结果表明,通过涂膜的草莓在糖分含量、酸度含量、花色苷含量的变化图中,1#、2#和对照组比较这些成分变化明显偏缓,而且细胞膜透性和褐变指标、商品率都表现出经过涂膜的草莓效果明显优于其它组。   相似文献   
67.
采用多弧离子镀技术在核用高强钢GR660表面制备了AgPd膜层。对膜层进行了摩擦磨损试验,使用扫描电镜观察了膜层的表面形貌、断面形貌及磨损形貌。结果表明,AgPd膜层的摩擦因数明显低于GR660基材,能起到很好的润滑减摩作用。  相似文献   
68.
开拓天然滤床渗流井取水,根据江河流量不同,取水量达1~5万m ̄3/d或更大。与传统的地面钻水井、挖大井或直接取江河水净化的方法有本质的区别。取水技术是以岩土钻凿综合新技术为依托,从河床砂卵砾石层底部通过集水竖井、导井、江底隧硐(输水平巷)和钻进渗流井群取潜流水。与传统方法相比具有维护简便,利于后续延伸工程的特点。  相似文献   
69.
研究了二次阳极电解法在氧化膜沉积固体润滑剂工艺中各参数对摩擦系数的影响。发现溶液浓度、电流密度和pH值等对摩擦系数无明显的直接影响,但它们可与处理时间匹配能改变膜的色泽。膜的色泽加深使摩擦系数降低。加热处理可降低摩擦系数,当有氩气保护时,这种作用更为明显。分析了二次阳极处理后膜的摩擦系数下降的机理。  相似文献   
70.
采用以ZrO2(MgO)固体电解质,配以一新辅助电极SiO2+CaF2的方法,对Fe+C(sat)+Si体系进行了测量。结果表明:当硅测头插入铁水5s以后电动势值即可达到稳定值;电动势与硅量的关系符合理论公式;T=1694~1749K,电动势随温度的变很小。本研究所开发的硅测头具有响应迅速、准确,可望在现场得到应用推广。  相似文献   
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