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掺杂聚苯胺导电膜的制备及对核设施表面铀的去污 总被引:3,自引:0,他引:3
制备了掺杂导电聚苯胺可剥离膜,首次采用涂膜、电解联用去污方法,进行涂膜电解去除渗透到核设施金属材料内部形成氧化物的铀。在膜中,聚苯胺、盐酸、EDTA-2Na含量各为4%、0.5%~1%、1%;电解电压2.3V、电解时间25min~30min时,其去污率可达99%,优于其它的方法。 相似文献
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LDD方法在提高电路工作电压中的应用研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了利用轻掺杂漏结构来制作高电源电压器件的工艺方法。分析了LDD结构参数对器件击穿特性的影响,并结合实验结果对N^-区的注入剂量,长度及引入的串联电阻进行了优化设计。 相似文献
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从实验上和理论上考查了在掺印光纤内隔离器的插入对光纤放大器对外部反射的灵敏度的影响,考查了处于不同饱和范围的掺铒光纤放大器(EDFA)的情况,而且把具有隔离器的光纤放大器结构与不上有隔离器的传统结构进行了比较。发现最显著的改善是在小信号范围内,对反射的要求可放宽13dB。这一优点,连同增益和噪声指数的提高,使具有这种隔离器的光纤放大器结构对于用作前置放大器来说格外引人注目。 相似文献
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采用溶胶凝胶方法成功地制备了掺杂稀土铽离子的 Zn O和 Mg0 .1 5Zn0 .85薄膜。通过对 X射线衍射结果的分析表明 ,稀土离子替代了 Zn2 +的格位 ,进入了半导体基质的晶格中。从阴极射线发光结果可以发现 ,在Mg0 .1 5Zn0 .85O基质中 ,可以观察到来源于稀土铽离子各能级的发射 ,而 Zn O:Tb的薄膜只能观察到较强的铽离子 5D4 — 7F5能级的跃迁。这可能是由于 Mg0 .1 5Zn0 .85O基质的能隙 (3 .65 e V)比 Zn O更宽 (3 .3 e V) ,其对铽离子的能量传递更有效的缘故。 相似文献
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