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41.
钨基催化剂上钨的分散性和加氢脱氮性能 总被引:3,自引:0,他引:3
采用浸渍法和干混法制备了一系列负载钨的层柱分子筛催化剂 (W /Al-CLM)和对比用的负载钨的γ -Al2 O3催化剂 (W/γ -Al2 O3 )。研究了W/Al-CLM和W /γ -Al2 O3 两种催化剂表面上钨的分散情况 ,测定了W /Al-CLM和W /γ -Al2 O3 两种催化剂的吡啶加氢脱氮微反活性 ,比较了W /Al-CLM和W /γ -Al2 O3 两种催化剂的钨的分散性和加氢脱氮活性 ,分析了规律性。氨水处理可以溶去催化剂上所有晶相钨物种 ,改善了钨物种在载体表面上的分散性 ,催化剂上不溶于氨水并呈单层分散的表面钨物种是加氢脱氮活性中心。 相似文献
42.
渣油中硫化物类型分布与化学转化性能 总被引:12,自引:0,他引:12
赵锁奇 《石油学报(石油加工)》2002,18(1):18-23
用X射线光电子能谱(XPS)定量研究了Athabasca渣油及其加氢裂化渣油,流化焦化渣油中的硫化物类型,用超临界流体萃取分馏将3种渣油分别分离成9-14个窄馏分及残渣,测定其中的硫醚,噻吩,亚砜和砜类硫原子的分布,讨论了加氢裂化和热裂化反应脱除硫化物的反应性能。 相似文献
43.
44.
磷钨酸乙醇染色法在嗜铬颗粒电镜X射线显微分析中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
通过比较常规透射电镜制样法、快速冷冻固定-冷冻超薄切片法及磷钨酸乙醇(EPTA)染色法在嗜铬颗粒透射电镜X射线显微分析中的应用,发现磷钨酸乙醇染色法能使嗜铬颗粒电子着色,从而较好地显示嗜铬颗粒的超微结构。同时磷钨酸乙醇染色法也以在一定程度上原位保留生物样品中元素,可以应用于检测样品元素含量的变化或比较样品元素含量的组间差别,提示磷钨酸乙醇染色法是一种可应用于透射电镜X射线显微分析的经济简便的生物样品制备方法。 相似文献
45.
DR是目前非常先进的X射线成像技术,将其X射线采集板工作温度控制在最佳工作范围可采集更好的图像。本系统采用PC和单独控制双模块分别控制温度,利用半导体传感器DS1620进行四路温度采集,通过单片机和PC串口通信,用PC通过半导体制冷芯片来控制X射线采集板的工作温度,在通信故障时也可以通过单独控制模块来控制采集板的温度。 相似文献
46.
702型光电自准直仪主要用于精密机械的直线度、平面度和小角度等参数的静态测量。本文作者经过多年研究,将该仪器用在 X 射线吸收谱仪之中,实现了自动跟踪的多点动态测量。 相似文献
47.
48.
软X射线不仅能引起红细胞表面电荷的变化,同时也能导致淋巴细胞和血小板表面电荷下降,表现为照射后它们的电泳率下降。低剂量范围内,这种电荷的变化是暂时性的,照后4小时降到最低点,24小时后恢复到对照的水平。细胞电泳率的下降与辐射剂量相关。淋巴细胞是一个复杂的细胞群,正常状态下,按细胞在电场中泳动速度的快慢,可分为两个组分:快峰为T细胞,慢峰为B细胞。软X射线照射以后,T和B细胞的电泳率皆减慢,频数分布峰值下降,离散度加大。血小板成分单一,电泳率较一致。 从照射浓集的血小板再加回自身血浆中电泳率的下降较照射血浆再加到血小板中的电泳率下降大得多;受照射的血小板在磷酸缓冲液中电泳率下降较在血浆悬液中严重得多;2000 rad照后,悬浮于血浆中的血小板电泳率能恢复,而悬浮于磷酸缓冲液中则不能恢复,三个方面来看,血浆中可能存在抗辐射因子。超氧化物岐化酶能有效地预防血小板电泳率的下降,从而可阻止血小板的凝聚。 相似文献
49.
利用2、4和14mm的X60钢紧凑拉伸试样进行同样应力水平、固定应力比(R=0.1)的疲劳裂纹扩展试验,揭示出高韧性管道钢的疲劳裂纹扩展存在显著的厚度效应。由于应力水平低,相应的离面应力也低,不足以导致分层开裂,因此,裂纹端部的三维应力约束随厚度增加而增大。4mm试样的疲劳裂纹速率远高于2mm试样,但厚度再增大,裂纹扩展速率不再有显著变化。进一步对表面裂纹试样进行疲劳裂纹扩展试验,并用勾线法纪录裂纹扩展情况,利用穿透裂纹的da/dN-ΔK曲线预测表面裂纹扩展,用2mm厚试样的数据控制裂纹表面长度的扩展,用14mm厚试样的数据控制裂纹底部沿厚度方面的扩展,得到了与表面裂纹扩展实验吻合很好的预测结果。 相似文献
50.
X射线底片数字化存储基本原理是运用计算机技术将底片作为景物图像经扫描器扫描,经数字化进行图像处理,把底片负象转变成数字信号,数字信号经计算机转换成光学图像在显示器上显示,进而存入磁盘或转录到磁带上作永久存储,系统软件构成主要由6个模块组成,底片的存储主要有以下特点:(1)存储无失真,可以任意复制,便于交流;(2)系统操作简单,观察更清晰,更全面,更准确。(3)节省大量的存储空间,科学地分类管理使查阅更快捷,更准确。(4)系统采用了精确的稳定控制技术,具有很高的稳定性和精确性,现代计算机技术和网络技术的进步将极大地促进底片数字化存储管理系统的广泛应用和迅速发展,另外,底片数字化存储系统的开发应用将促进无损检测缺陷智能的实现。 相似文献