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51.
52.
基于甲基异丁基甲酮于稀盐酸介质中定量地萃取Zn ̄(2+)与CNS ̄-形成的络阴离子。从而达到与共存的锰、镍、铝、铬的完全分离。在有氟化物、硫脲存在时Fe ̄(3+)、Cn ̄(2+)和Ag ̄+也不被萃取。有机相中的锌于PH5.5“六胺”缓冲介质中返萃取回水相,用EDTA滴定。在文中给定的条件下锌的一次被萃取率可达99%以上,成功地解决了锰铜基高阻尼合金中共存离子对锌量测定的干扰问题。 相似文献
53.
对碳纳米管阴极的制备以及场发射显示器的真空封装技术进行了研究.利用一种新的碳纳米管生长工艺制备出了具有优良场发射性能的碳纳米管阴极.并将这种直接生长的碳纳米管薄膜作为阴极,结合一种弹性封装工艺,开发了一种具有简单字符显示功能的场发射显示器.该显示器在较低的工作电压下就可获得高亮度的显示效果,并且器件的亮度与驱动电压成较好的线性关系,这将有利于未来的碳纳米管场发射显示器实现高亮度和多级灰度显示.器件的持续工作寿命测试已经超过5500小时,充分验证了碳纳米管作为场发射阴极的应用潜力. 相似文献
54.
许禄 《计算机与应用化学》1994,11(2):107-111
进行碳-13NMR波谱模拟的一种常用方法为线性回归,其数学模型则由已知结构所测得的化学位来建立。显然,每一数学模型仅可用于某种相似的化学环境。因此,为了进行化学环境的分类,本文提出权重层次位图法和分子连接性指数法两种方法以进行一些参数的计算,同时采用多元分析手段,如主成分分析和聚类分析,以进行多维空间数据点的显示,所得结果比较满意,从而可为碳-13波谱模拟中回归方程的选择提供理论依据。 相似文献
55.
V S R Murthy 《Bulletin of Materials Science》1993,16(2):87-108
Research and development efforts on high-temperature, oxidation-resistant fibres have increased over the past decade due to
the demand for light-weight, stiff and strong composite materials in aerospace applications. Varieties of ‘high-performance’,
continuous, non-oxide fibres with low-density, high tensile strength and tensile modulus have been developed either from organic
precursors or via chemical vapour deposition for fabrication of ceramic matrix composites. Fibres derived from polymer precursors
(e.g. Nicalon, Tyranno, HPZ) are small in diameter (compared to CVD monofilaments) and are ideally suited for ceramic composites.
Processing, microstructural stability and mechanical properties of these newly developed SiC and Si3N4 base fibres are briefly reviewed in this paper. 相似文献
56.
超细Fe3O4粒子表面包覆酞菁钴性质研究 总被引:3,自引:1,他引:2
本文研究了合成载氧体的金属有机化学液相淀积法制造工艺,所得产物经TEM、XPS、Moss-bauer谱和B-H仪等手段,研究了它的结构和磁性能。实验表明,酞青钴以薄层形式包覆在Fe_3O_4的表面,封闭了Fe_3O_4的表面孔洞,稳定了Fe_3O_4的物相,增强了磁性能。 相似文献
57.
泥化软化性F_5断层是故县大坝坝基范围内最大的一条断层,位于左岸,对左坝肩的稳定极为不利,采用水泥灌浆处理无效,故改用化学灌浆处理。选用EAA化学浆材,采用“优选组合配方综合施灌”的创新施工工艺,效果良好,为今后低渗透性复杂的泥化软化性断层的防渗加固处理,提供了新的依据和途径。 相似文献
58.
分子印迹技术及其应用 总被引:3,自引:0,他引:3
分子印迹技术是将高分子科学、材料科学、生物学、化学工程等有机集成。基于分子印迹技术所制备的分子印迹聚合物具有选择性高、稳定性好、应用范围广等特点 ,近年来得到了日益广泛和深入的研究。介绍了分子印迹技术的原理、分子印迹聚合物的制备方法、分子印迹技术的应用场合和实例 ,并简要预测了分子印迹技术领域未来的发展趋势。 相似文献
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