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THERMOCOUPLEUSEDFORTEMPERATUREMEASUREMENTOFALUMINIUMCELLSBYDYNAMICMETHOD¥Yu,Xuebin(InstituteofCompositeMaterial,JiaoTongUnive... 相似文献
962.
基于PC机和80C196单片机的温度微机控制系统 总被引:1,自引:0,他引:1
文章介绍了由PC机和80C196单片机构成的热处理温度微机控制系统,并就集中温度数据采集方法、PC机和单片机的数据通信格式、单片机软硬件设计、双向晶闸管的触发电路等相关技术进行了分析,给出了串行通信中断接收及数据处理程序设计流程图. 相似文献
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Y.P. Lu G. C. Yang C.L. Yang H.P. Wang Y.H. Zhou 《金属学报(英文版)》2006,19(1):43-50
A large undercooling level up to 550K (0.386Te) was achieved in eutectic Ni78.6Si21.4melt by the combination of molten-glass and cyclic superheating. A microcrystaUine structure is obtained at large undercooling. Surprisingly, the morphology of ct(Ni) phase transits from the non-faceted phaseto faceted phase at large undercooling of 390K. Based on the classical nucleation theory and transient nucleation theory, the process of microstructure evolution and competitive nucleation was analyzed, and the refinement of crystal structure is determined by the high nucleation rate under large undercooling. 相似文献
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Dilute copper-aluminium alloys were oxidized in air from 700 to 1000 °C. Two distinctive behaviours were observed: alloys with at least 3 wt% aluminium showed excellent oxidation resistance in the whole temperature range. Alloys with 2 wt% or less aluminium exhibited good oxidation resistance up to 800 °C; but as the temperature was further increased, the oxidation rate of these alloys increased and became comparable to that of pure copper. A kinetic model was developed to explain the oxidation behaviour and indirectly determine the amount of dissolved oxygen in the alloys tested. It was found that the oxygen dissolved in alloys with up to 2 wt% Al exceeded its solubility limit in copper, whereas the dissolved oxygen in alloys with higher aluminium contents was below the solubility limit. This difference may account for the significantly different oxidation resistance. 相似文献
969.
SiO32-对TiAl合金微弧氧化陶瓷层的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
采用自行研制的脉冲微弧氧化设备,在TiAl合金表面制备了微弧氧化陶瓷层.测定了TiAl合金微弧氧化陶瓷层在高温循环氧化条件下的氧化动力学曲线。研究了在微弧氧化处理溶液中加入SiO3^2-对陶瓷层性能的影响。实验结果显示:经过微弧氧化处理后试样的高温氧化动力学曲线大致呈抛物线规律,其表面的陶瓷氧化膜具有保护性;在微弧氧化处理溶液中加入SiO3^2-后,微弧氧化处理的TiAl合金的使用温度可提高到1273K。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对陶瓷层的显微结构和物相组成进行分析,发现其物相组成为含量约占80%的Al2TiO5,11%的TiO2以及9%的SiO2。这表叫SiO2能仃效抑制Al2TiO5在高温下的分解,从而大幅提高TiAl合金的抗高温氧化性。 相似文献
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