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双PWM变频调速系统采用交一直一交拓扑结构,通过可控整流,实现网侧电流接近正弦波,网侧功率因数近似为1,具有较快的动态响应,双向传输电能等诸多优点,实现了节能调速。针对NPC型三电平拓扑给出了一种参考电压分解的三电平SVPWM算法,简化为两电平SVPWM算法,比传统的三电平SVPWM算法易于实现,仿真验证7该算法的有效... 相似文献
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提出了一种新的全耗尽SOI MOSFETs阈值电压二维解析模型.通过求解二维泊松方程得到器件有源层的二维电势分布函数,氧化层-硅界面处的电势最小值用于监测SOI MOSFETs的阈值电压.通过对不同栅长、栅氧厚度、硅膜厚度和沟道掺杂浓度的SOI MOSFETs的MEDICI模拟结果的比较,验证了该模型,并取得了很好的一致性. 相似文献
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Based on current voltage (I-Vg) and capacitance voltage (C-Vg) measurements, a reliable procedure is proposed to determine the effective surface potential Vd.Vg/ in Schottky diodes. In the framework of thermionic emission, our analysis includes both the effect of the series resistance and the ideality factor, even voltage dependent. This technique is applied to n-type indium phosphide (n-InP) Schottky diodes with and without an interfacial layer and allows us to provide an interpretation of the observed peak on the C-Vg measurements. The study clearly shows that the depletion width and the flat band barrier height deduced from C-Vg, which are important parameters directly related to the surface potential in the semiconductor, should be estimated within our approach to obtain more reliable information. 相似文献
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本论文主要介绍高压大电流VDMOS功率晶体管的研制。这次研制的VDMOSFET,设计耐压高达600V,导通电流达到8A,导通电阻为1Ω。设计中,按照要求,确定外延层浓度和厚度;芯片元胞结构参数,阱掺杂浓度;器件边缘保护环,场极板参数。在大量参阅国内外资料的基础上,我们提出新的芯片元胞设计方案,由此确定的垂直电流区宽度比以往方案缩小一个数量级,大大节约芯片面积,成功地实现了把大约二万人元胞集成在一块芯片上。同时,在器件边缘终端结保护环设计中提出新思路,提高了器件可靠性,并有效减少芯片面积。 相似文献
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理论上通过从头算法 (abinitio)计算强相互作用的N2 分子二聚物可能存在的 6种点群构型的势能曲线 ,证明N2 分子二聚物以D2h 对称群构型存在 ,且存在电偶极允许的类准分子跃迁a1B2 g →a1B3u,并计算了a1B2 g →a1B3u 跃迁的荧光谱。估算了N2 分子二聚物 ( 3 3 6 2 1nm)的小信号增益系数。利用微波 ( 2 45GHz)激励高纯氮 ,实验观测了N2 分子二聚物的系列荧光谱带 ,并利用放大自发辐射 (ASE)法测量N2 分子二聚物 ( 3 3 6 2 1nm)的小信号增益系数 ,在误差范围内与理论估算基本一致。最后从理论上估算了N2 分子二聚物激光振荡的输出功率。 相似文献
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