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主持人:欢迎进入《百花苑》。
染整工艺过程若工艺线速度不实施控制.非但会影响工艺质量,对于联合机来说.将因单元机间不能协调运行而开不出车:尽管工艺温度测控上存在测温点的安置不当及控制不妥.温控精度不够、“过冲”严重,然而,由于温度控制贯穿染整工艺的全过程,因此目前还是应用广泛: 相似文献
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基于传统离子敏感器件的敏感模型,建立了与CMOS工艺兼容的以钝化层氮化硅作为敏感膜的MFGFET(multi-floating gate FET)多层浮栅晶体管结构阈值电压模型.采用上华0.6μm CMOS标准工艺,设计了一种与CMOS工艺兼容的pH值传感器.片上控制电路使MFGFET器件源漏电压和源漏电流恒定,器件工作在一个稳定的状态.采用离子敏MFGFET和参考MFGFET差分拓扑结构,减少了测量电路的固定模式噪声.器件溶液实测pH值在1~13范围内,器件的平均灵敏度为35.8mV/pH. 相似文献
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为解决测试装置不完善造成电源EMI滤波器插入损耗测量结果的严重失真问题,设计了一款基于同轴传输线结构的同轴探针,用于适配滤波器插针式的引出端。以此探针为基础,设计了一款测试工装,并将此测试工装与同轴“开口线”作为对照组,测试了滤波器样品的插入损耗。数据显示,非同轴结构的同轴“开口线”测试结果存在严重失真,不能满足准确测试的要求;而测试工装所获测试结果与标准数据基本一致。相对而言,同轴测试系统是准确测量插入损耗的解决方案。 相似文献
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