高质量ZnO薄膜的退火性质研究

在LP－MOCVD中，我们利用Zn(C2H5)2作Zn源，CO2作氧源，在（0002）蓝宝石衬底上成功制备出皮c轴取向高度一致的ZnO薄膜，并对其进行500℃-800℃四个不同温度的退火。利用XRD、吸收谱、光致发光谱和AFM等手段研究了退火对ZnO晶体质量和光学性质的影响。退火后，（0002）ZnO的XRD衍射峰强度显著增强，c轴晶格常数变小，同时（0002）ZnOX射红衍射峰半高宽不断减小表明晶粒逐渐增大，这与AFM观察结果较一致。由透射谱拟合得到的光学带隙退火后变小，PL谱的带边发射则加强，并出现红移，蓝带发光被有效抑制，表明ZnO薄膜的质量得到提高。     

绿色食品与绿色包装

介绍了食品绿色包装与环境保护的关系，探讨了食品绿色包装材料的选择及应用，食品绿色包装设计及市场价值等方面的内容。     

全球趋向统一的《粉末冶金零件材料规范》

评述了ISO 5 75 5“烧结金属材料—规范”和美国MPIF标准 35的变迁和趋向统一。阐述了“最小强度值”的意义。说明了我国粉末冶金结构零件材料标准的现状     

Si衬底上Ta-N/Cu薄膜性能研究

对Si衬底上Ta-N/Cu薄膜进行了电学和热学分析，结果发现500℃以下薄膜电随几乎不变，600-690℃下的退火引起的电阻率降低是由于Ta-N电阻的热氧化和Cu熔化扩散引起的，而690℃以上的电阻率增加是由于Cu引线传输能力减弱所致，为0.18μm以下的超大规模集成电路中的Cu引线和电阻薄膜的制作提供了有益的借鉴。     

PVD涂层工艺在M3滚刀上的应用

对M3滚刀进行了物理气相沉积 (PVD)工艺试验。经高温耐磨试验和切削试验证明 ,M3滚刀经TiN涂层后 ,其耐磨性和使用寿命显著提高。     

现代住区规划的几点思考

通过对居住区规划中住区交通组织、环境建设,以及住宅配套现实处理方法的分析,指出现代住区的规划要根据当地实际情况,因地制宜组织住区交通网络,合理整合住宅内外环境,适度超前建设配套设施。     

寒区沥青胶浆延性研究

首交提出了沥青胶浆延工的概念，并测定、分析了两种寒区沥青、四种粉胶比在四个温度下的沥青胶浆延度。认为沥青胶浆延度较沥青延度更能反映沥青混合料的流变性能，而且胶浆延度与温度、粉胶比之间有很好的相关性。     

电脑提花圆机图案的设计与开发

应用当前景流行的图形设计软件Coredraw9.0和Photoshop5.0，设计针织面料T恤花型，进一步利用SCC4F-548型电脑提花圆机相配套的图形设计软件Aupaint处理，生成提花花型图案，为夏季T恤花型图案设计提供了一条简便快捷的设计方法和新的设计思路。     

双跨换热器传热管在静水中阻尼特性的研究

本文对双跨换热器传热管在静水中的结构阻尼与粘滞阻尼作了简介,并对在总阻尼中占主导地位的挤压膜阻尼作了较深入的讨论。Mulcahy 于80年代初提出的挤压膜阻尼数学模型是较为完善的,其缺陷是未计入管子振幅的影响,本文对它进行了修正。为了验证理论分析的结果,笔者对双跨传热管在静水中的挤压膜阻尼作了实验研究,得出挤压膜阻尼与中间支承板厚度、管子-中间支承板间隙以及管子振幅之间的关系。     

NiTi形状记忆薄膜的显微结构和力学性能

NiTi形状记忆合金薄膜具有形状记忆效应，极有希望用于制造高技术领域微电子机械系统中的微型激发器。NiTi形状记忆合金薄膜在制备和使用过程中需要高品质（衬）底材。本文利用高分辨电子显微学和高分辨分析电子显微学详细研究了硅底材NiTi形状记忆合金薄膜的NiTi／Si和NiTi／SiO2微结构体系，包括薄膜精细结构和界面反应。也研究了其显微结构和力学性能的关系。特别给出了NiTi形状记忆合金薄膜产生疲劳过程的微观过程的起因，通过高达十万个使用热循环前后样品显微结构变化的比较，发现纳米尺度上的TiNi3新相的形成导致疲劳过程的发生。如何抑制TiNi3新相形成的研究正在进行之中，这将为进一步提高NiTi形状记忆合金的使用寿命指出方向。