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41.
集成电路生产中废气的污染及治理 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍集成电路生产中产生各种废气的种类,废气中有害物质浓度及其危害性,并依据工程实践,评述了各类有害废气的各种处理方法。 相似文献
42.
In this work it is presented a study on the residence time distribution (RTD) of particles in a co-current pilot-plant spray dryer operated with a rotary atomization system. A nuclear technique is applied to investigate the RTD responses of spray dryers. The methodology is based on the injection of a radioisotope tracer in the feed stream followed by the monitoring of its concentration at the outlet stream. The experiments were performed during the drying of aqueous suspensions of gadolinium oxide. The RTD responses obtained experimentally presented good reproducibility, indicating that the technique applied is well suited to investigating fluid-dynamics of spray dryers. In addition to the experimental investigation, a mathematical model was used to describe the RTD experimental curves. 相似文献
43.
44.
根据石油开采业对石油机械产品的需求 ,利用机械理论基础知识 ,通过实践设计 ,提出了对几何尺寸长的金属管类进行调质处理后的均匀冷却方法 ,以满足其性能要求。 相似文献
45.
硅微机械梳齿静电谐振器的建模与分析 总被引:5,自引:2,他引:3
基于参数化的计算机辅助设计(CAD)软件,对硅微机械梳齿静电谐振器进行了实体建模,以有限元分析软件为工具,进行了谐振器的模态分析,静态分析和谐响应分析,初步揭示了谐振器的静、动态特性,有助于改善设计效率和质量,展示了计算机辅助工程(CAE)技术在微机电系统(MEMS)研究中的重要作用。 相似文献
46.
47.
报导一种模糊逻辑控制系统的建模与优化方法。以此方法设计的模糊逻辑控制器,用于双波长稳频CO2激光器的控制得到令人满意的结果。 相似文献
48.
Modeling ion implantation of HgCdTe 总被引:2,自引:0,他引:2
H. G. Robinson D. H. Mao B. L. Williams S. Holander-Gleixner J. E. Yu C. R. Helms 《Journal of Electronic Materials》1996,25(8):1336-1340
Ion implantation of boron is used to create n on p photodiodes in vacancy-doped mercury cadmium telluride (MC.T). The junction
is formed by Hg interstitials from the implant damage region diffusing into the MC.T and annihilating Hg vacancies. The resultant
doping profile is n+/n-/p, where the n+ region is near the surface and roughly coincides with the implant damage, the n- region is where Hg vacancies have been annihilated revealing a residual grown-in donor, and the p region remains doped by
Hg vacancy double acceptors. We have recently developed a new process modeling tool for simulating junction formation in MC.T
by ion implantation. The interstitial source in the damage region is represented by stored interstitials whose distribution
depends on the implant dose. These interstitials are released into the bulk at a constant, user defined rate. Once released,
they diffuse away from the damage region and annihilate any Hg vacancies they encounter. In this paper, we present results
of simulations using this tool and show how it can be used to quantitatively analyze the effects of variations in processing
conditions, including implant dose, annealing temperature, and doping background. 相似文献
49.
50.
本文对芝麻营养保健成分的提取进行了系统的研究。确定了芝麻营养原液的制取工艺。为充分发挥芝麻的营养保健作用开辟了新的途径。 相似文献