氢氟酸生产中副产石膏的应用

氢氟酸生产中副产石膏的应用１概述工业上氢氟酸的生产是以萤石和硫酸为原料，根据化学反应，生产１吨氢氟酸副产３．６吨石膏，以１９７６年为例，每年氢氟酸生产的副产石膏２００～３００万吨。占世界硫酸钙产量的５％。这就要求以低成本排放石膏，排放的方法有两种：（...     

PVC膜pH电极的应用——氢氟酸电离常数的测定

本文制备了以４,４′－－二「（Ｎ,Ｎ′－二癸基氨基）」甲基偶氮苯（ＤＡＭＡＢ）为ｐＨ载体的ＰＶＣ膜ｐＨ电极,该电极在较宽ｐＨ范围内对Ｈ＾＋有较好的能斯特响应,将该电极用于氢氟酸的电离常数测定时,结果良好。     

高压密闭酸溶-ICP-Ms同时测定沉积物样品中Cd,Mo,Ge,B等多种微量元素

本文采用氢氟酸-硝酸混合酸体系,在防腐高压消解罐内密闭消解样品,利用ICP-Ms实现沉积物样品中Cd, Mo, Ge, B等多种微量元素的测定。本方法适用范围当样品量为0.1000 g,定容体积为50 mL时,镉元素为0.01μg/g,钼元素为0.02μg/g,锗元素为0.02μg/g和硼元素为0.82μg/g。方法精密度和准确度均满足要求。本方法简便,准确,高效。     

成果简报

钢轨防锈涂料开发成功近日,包钢与中国铁道科学研究院合作开发的包钢钢轨在线防锈技术通过了由中国腐蚀与防护学会、中铁物资公司,以及呼和浩特、上海、济南、太原铁路局专家组成的专家组审查。     

集成电路废水处理系统设计

本文通过调研深入了解了集成电路生产线工艺流程、废水来源及废水组成，介绍集成电路废话水处理工艺流程及原理、主要构筑物和设备以及运转控制条件，列举出主要技术经济指标以及工程设计特点，并且总结了废水处理站实际运行后的经验培训及有关建议，希望对给水排水专业设计人员有所借鉴。     

微纳光纤的制备及其光学特性研究

在微纳光纤的制作中,制作方法和相关参数的选择与控制是影响其光学传输特性的重要因素。该文基于单模光纤,理论模拟并实验分析了熔融拉锥法和氢氟酸(HF)腐蚀法在制备微纳光纤（MNF）过程中的相关参数与传输光学特性变化规律。研究表明,在制备MNF过程中,直径从20 μm减小到0时,传输功率损耗达97%,受耦合损耗和环境折射率变化的影响,理论损耗值与实验结果虽存在一定差异,但变化规律保持一致。通过OptiFDTD软件模拟,指出倏逝场深度随着光纤直径的减小而增大,且与损耗存在非线性关系,当输入光波波长与光纤的直径相比拟时,能量几乎全部集中在光纤的表面,此时外界环境变化对光纤内光波导响应灵敏度提高,微纳光纤的这种特性在传感领域具有潜在的应用市场。     

成本有效的用于互连线条的稀释酸刻蚀后清洗

铝线条条和硅氧化物通孔刻蚀后,传统上都是使用包含胺,重金属结合剂,表面活性剂及其他成分进行清洗.这些混合剂是用来高效去除刻蚀后残留物的,而不会对硅氧化物介质造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.羟胺(许多此类溶解混合物的主要成分)所带来的供应、成本和残留物等问题,促使集成电路制造商寻求可替换的清洗化学试剂. 在集成电路制造的过程中,在只使用硅和硅氧化物的时期,使用浓缩和稀释的酸混合物用来清洗硅晶已有十多年的历史了.但是,当出现了铝或其他金属后,不能使用浓缩酸进行清洗,因为会对金属产生过量的破坏.近来,稀释酸混合物已成功用来高效去除铝线条和硅氧化物通孔刻蚀后的残留物,而不会对氧化物造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.稀释酸混合物的特征是含有两种或两种以上的硫磺酸,双氧和氢氟酸.这些化学试剂在当今的IC制造厂很容易得到,并可采用目前的清洗设备,如FSI ZETA 系统,方便地在线混合稀释.在线混合稀释化学试剂可以明显节约成本.一个批量喷雾系统可以同时处理多达100片的200mm晶圆或50片300mm晶圆,提高了产量从而节约了成本.性价比高的铝互连线条的稀释酸刻蚀后清洗已被成功验证并用于生产中.     

碳四烷基化工艺的技术与经济比选分析

介绍了碳四烷基化技术工艺类型,从反应器型式、工艺参数、能耗、物耗等方面对硫酸法、氢氟酸法、离子液法、固体酸法等主要技术进行了对比分析;选择已有应用业绩的硫酸法、氢氟酸法、离子液法3类工艺技术,在统一的基准、参数与价格下,进行技术经济评价,并给出综合评价意见与建议。对比结果表明：硫酸法烷基化的经济性介于氢氟酸、离子液法之间,离子液烷基化在降低成本方面仍存在改进空间;国产化硫酸法烷基化技术由于投资低,技术指标相当,在经济上较引进技术具有一定优势。