成本有效的用于互连线条的稀释酸刻蚀后清洗

铝线条条和硅氧化物通孔刻蚀后,传统上都是使用包含胺,重金属结合剂,表面活性剂及其他成分进行清洗.这些混合剂是用来高效去除刻蚀后残留物的,而不会对硅氧化物介质造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.羟胺(许多此类溶解混合物的主要成分)所带来的供应、成本和残留物等问题,促使集成电路制造商寻求可替换的清洗化学试剂. 在集成电路制造的过程中,在只使用硅和硅氧化物的时期,使用浓缩和稀释的酸混合物用来清洗硅晶已有十多年的历史了.但是,当出现了铝或其他金属后,不能使用浓缩酸进行清洗,因为会对金属产生过量的破坏.近来,稀释酸混合物已成功用来高效去除铝线条和硅氧化物通孔刻蚀后的残留物,而不会对氧化物造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.稀释酸混合物的特征是含有两种或两种以上的硫磺酸,双氧和氢氟酸.这些化学试剂在当今的IC制造厂很容易得到,并可采用目前的清洗设备,如FSI ZETA 系统,方便地在线混合稀释.在线混合稀释化学试剂可以明显节约成本.一个批量喷雾系统可以同时处理多达100片的200mm晶圆或50片300mm晶圆,提高了产量从而节约了成本.性价比高的铝互连线条的稀释酸刻蚀后清洗已被成功验证并用于生产中.     

失效磷酸基抛光液脱铝新工艺研究

研究了用氢氟酸和氢氧化钠净化失效磷酸基抛光液新工艺。在反应温度50℃、反应时间40 min、搅拌速度200 r/min、氢氧化钠用量为理论化学计量1.0倍、氢氟酸添加量为理论化学计量1.2倍、静置1 d条件下,失效磷酸基抛光液中铝脱除率达90%以上,同时有8%~10%的抛光液转化为锥冰晶石。与传统工艺相比,该工艺可使抛光液得到再生利用,而且容易获得纯度较高的纳米锥冰晶石,具有良好的推广应用价值。     

氢氟酸反应炉的腐蚀分析与防护对策

分析引进的BUSS工艺氢氟酸反应炉腐蚀的主要原因,提出了解决问题的对策,以控制和减少反应炉的腐蚀。     

石墨提纯方法进展

详细介绍了目前国内外石墨提纯的各种方法,主要有浮选法、碱酸法、氢氟酸法、氯化焙烧法和高温提纯法,系统地阐述了它们的基本原理、工艺条件、研究进展以及在实际生产中的应用情况,在进行了各种方法的优缺点对比之后,得出经过改进的碱酸法仍不失为工业提纯石墨的最好方法。     

硅酸盐玻璃的化学处理研究进展

氢氟酸溶液常用于硅酸盐玻璃的表面处理,其化学反应机理一直备受关注.本文从氢氟酸电离反应出发,全面归纳氢氟酸稀溶液电离机理、平衡常数以及各电离产物的作用,重点总结了HF-SiO2反应动力学、各研究理论模型、反应速率公式和反应机理.针对目前硅酸盐玻璃的化学处理研究现状,认为硅酸盐玻璃在高浓度氢氟酸溶液和氢氟酸/强酸混合溶液中化学处理的应用将是未来的研究方向.     

2205和316L不锈钢在氢氟酸中的电化学腐蚀行为

通过动电位极化和电化学阻抗方法考察了2205双相不锈钢和316L不锈钢在5%(体积分数)HF溶液中的电化学行为,借助Mott-Schokkty曲线分析了两种不锈钢表面钝化膜的半导体特性。结果表明：两种不锈钢在氢氟酸溶液中都能发生钝化,且2205双相不锈钢的钝化区间范围更宽,维钝电流密度更低。2205双相不锈钢表面钝化膜表现出更高的钝化膜电阻和电荷转移电阻,其抗氢氟酸腐蚀性能优于316L不锈钢,这主要与2205双相不锈钢中的Mo和Cr含量高、表面钝化膜缺陷少、钝化膜易修复等因素有关。     

氢氟酸直接浸出从含钨萤石精矿中提钨试验研究

介绍了湖南某地区含钨萤石精矿采用氢氟酸直接浸出提钨的方法。通过对氢氟酸用量、浸出温度和浸出时间等工艺参数进行研究表明:在加入液固比1.2∶1的氢氟酸溶液(含氢氟酸40%),浸出温度30℃,浸出时间1 h的条件下,钨浸出率可达93%以上。     

低钙粉煤灰活性激发技术的研究

用HF酸作为激发剂并结合物理粉磨活化法对低钙粉煤灰进行活性激发试验。试验方案按正交L6（3^4）设计,以强度为考察指标,研究了HF掺量、混料时间以及陈化时间等主要因素对粉煤灰活化作用的影响;并综合经济性、操作性、粉煤灰活性发挥等其他因素,确定其最合适激发工艺为：每kg的FA中HF掺量为12mL,混料时间6min,陈化时间2d。同时,利用活化的低钙粉煤灰制备了地聚水泥。     

液下屏蔽电泵在氟化氢领域的应用

输送无水氟化氢的液下屏蔽泵常发生泵被卡死、电流偏高、打不起流量等故障,分析了输送无水氟化氢的液下屏蔽泵产生故障的原因,并进行了轴承、轴套、推力盘等相应的改造,保证了屏蔽泵的长周期稳定运行。     

直流锅炉氢氟酸化学清洗

本文介绍了运行直流锅炉采用氢氟酸半闭半循环化学清洗方法的工艺特点、控制方法等,详细叙述了化学清洗过程,通过清洗效果比较,说明了半闭半循环化学清洗方法的优势,炎同类型锅炉进行氢氟酸化学清洗提供了经验借鉴。