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101.
硅晶体中点缺陷结合过程的分子动力学模拟 总被引:2,自引:0,他引:2
本文采用分子动力学方法模拟了硅晶体中空位与间隙原子的结合过程.利用Stillinger-Waber三体经验势函数表征原子间的相互作用,采用Verlet积分算法,在VC++环境下使用C++语言编程,进行计算机模拟.结果表明,空位和间隙原子倾向于通过<111>方向结合,并且在运动过程中存在着势垒,势垒值为0.5~1.2eV. 相似文献
102.
无机材料点缺陷的研究具有基础性和前沿性特色,是当前高技术陶瓷发展中的一个新兴的技术支撑,具有诱人的应用前景,甚为世人瞩目.点缺陷结构与高技术陶瓷的物理和化学性能密切相关.本文就点缺陷能量、生成、缔合、点缺陷和界面间的互作用等化学和物理机制,点缺陷的电子学以及点缺陷工程研究中的最新进展等方面进行了综述.本文还就点缺陷对改善高技术陶瓷的电、磁、光、力和生物等性能所提供的美好前景进行了评述,以期有助于今后我国在无机材料领域原创性和开拓性研究的深入发展. 相似文献
103.
104.
105.
L10-TiAl基本物性的计算与比较研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了从理论上进一步揭示L10型TiAl金属间化合物的本征物性,采用第一原理赝势平面波方法,计算了L10型TiAl金属间化合物的平衡晶格常数、合金结合能、形成热、弹性常数以及点缺陷形成能,并与其他计算方法和实验测试的结果进行了比较.点缺陷形成能的分析结果表明,富Ti合金易出现Ti反位缺陷,富Al合金易出现Al反位缺陷;双空位形成能的分析结果表明,Ti-Ti最近邻双空位形成能最低,表明这种Ti-Ti最近邻双空位最稳定.基于晶体总电子态密度与各原子分波态密度等电子结构信息,对上述计算结果进行了初步分析. 相似文献
106.
TFT LCD(薄膜电晶体液晶显示器)在生产中会产生很多点缺陷,例如亮点、暗点、闪点,还有碎亮点等,这些亮点缺陷常常给显示带来一些缺憾,但是可以通过暗点化、亮点化、ITO隔离、镭射炸射等方法对其进行修复或者淡化。在实际生产中会有大约5%-8%的点缺陷产生,通过镭射修复或者被淡化后,每年大约可给公司节约1000万关金,大大降低了整个生产的成本。 相似文献
107.
二维非线性光子晶体点缺陷的双稳态特性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用时域有限差分技术分析了非线性光子晶体点缺陷的双稳态特性,选择一定频率失谐的连续波入射并观察透射现象.分析发现,当连续波功率增加到阈值点时透射率达到最大值.采用大功率脉冲辅助连续波的方式发现点缺陷的透射率一直处于高透射状态,直至连续波功率下降到很低时,透射率才迅速下降.双稳态特性由频率失谐δ、缺陷谐振频率ω0及非线性系数n2等3个参数决定.采用空间电磁场的摄动理论验证所得结果与数值模拟结果一致. 相似文献
108.
《Planning》2014,(28)
材料科学基础课程中的《晶体缺陷》内容是学生较难理解的内容,学好本章内容对学生掌握材料科学基础课程具有十分重要的作用。文章详细介绍了如何讲解点缺陷、线缺陷和面缺陷,通过举例式教学配合播放动画视频,提高了学生学习兴趣,增强了学习效果。 相似文献
109.
110.