碳纳米管(CNT)场发射显示器的关键技术的研究

对碳纳米管阴极的制备以及场发射显示器的真空封装技术进行了研究.利用一种新的碳纳米管生长工艺制备出了具有优良场发射性能的碳纳米管阴极.并将这种直接生长的碳纳米管薄膜作为阴极,结合一种弹性封装工艺,开发了一种具有简单字符显示功能的场发射显示器.该显示器在较低的工作电压下就可获得高亮度的显示效果,并且器件的亮度与驱动电压成较好的线性关系,这将有利于未来的碳纳米管场发射显示器实现高亮度和多级灰度显示.器件的持续工作寿命测试已经超过5500小时,充分验证了碳纳米管作为场发射阴极的应用潜力.     

SiC微粒对Ni—W—SiC复合镀层工艺及性能的影响

讨论了工艺参数对镀层成份的影响及热处理方式对Ｎｉ－Ｗ－ＳｉＣ复合镀层组织结构、硬度和耐磨性的影响。结果表明，采用电沉积工艺，可得到含Ｎｉ５０％￣５５％、Ｗ４２％￣４５．４％、ＳｉＣ３．０％￣７．６％的复合镀层。Ｎｉ－Ｗ－ＳｉＣ复合镀层在镀态时为非晶态，经５００℃热处理１ｈ或氮碳共渗后，镀层已晶化，产生了镍固溶体和少量的γ－ＦｅＮｉ相，经氮碳共渗后还有ＷＣ和ＷＮ相。ＳｉＣ微粒的加入显著地提高了Ｎｉ－     

云母薄片表面TiO2沉积的结晶过程

在稀钛盐溶液催化水解制造云母钛珠光颜料工艺过程中,水合TiO_2粒子大小的控制是控制整个颜料片TiO_2包覆薄层几何厚度的关键.酸性的钛盐溶液在水解初期会形成大量的3～15nm的微结晶,即所谓“自生晶种”,并在金属和酸根离子的作用下加速汇聚,形成水合二氧化钛粒子,晶种的质量不仅直接关系到二氧化钛多晶膜的厚度,     

喷雾共沉法制备高性能金属基复合材料的新思路

通过对常见的三种颗粒增强金属基复合材料制备方法的比较，得出可控喷才共沉积方法为制备具有优异综合性能复合材料提供了的可能；并且指出在喷雾共沉积工艺过程中，综合应用传统方法（合金化与变质工艺）可望实现增强相／基体界面微观结构设计，从而真正制得满足航空、汽车与民用工业特殊要求的新型材料。     

水平井岩屑录井的影响因素及对策

由于岩屑沉积床的形成、井壁坍塌和井眼不规则、岩屑多次破碎、钻时资料失真及混油钻井液污染等因素影响，水平井的岩屑比普通直井更混杂、更细碎，代表性也更差，岩屑中的油气显示真假难辨。通过加密实测迟到时间，参考钻井参数及DC指数可以对岩屑进行较准确地分层、描述，采用多次荧光滴照、四氯化碳浸泡、气测资料分析等方法，能够有效地区分真假油气显示。     

高质量ZnO薄膜的退火性质研究

在LP－MOCVD中，我们利用Zn(C2H5)2作Zn源，CO2作氧源，在（0002）蓝宝石衬底上成功制备出皮c轴取向高度一致的ZnO薄膜，并对其进行500℃-800℃四个不同温度的退火。利用XRD、吸收谱、光致发光谱和AFM等手段研究了退火对ZnO晶体质量和光学性质的影响。退火后，（0002）ZnO的XRD衍射峰强度显著增强，c轴晶格常数变小，同时（0002）ZnOX射红衍射峰半高宽不断减小表明晶粒逐渐增大，这与AFM观察结果较一致。由透射谱拟合得到的光学带隙退火后变小，PL谱的带边发射则加强，并出现红移，蓝带发光被有效抑制，表明ZnO薄膜的质量得到提高。     

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

本对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评，重点强调了等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）的优势，进展及其在工模具领域的应用。