核电厂硼加热系统备用伴热缆异常投运原因分析

介绍了秦二厂３/４＃机组硼加热系统的作用,并对主控室长期存在的硼加热系统相关报警原因进行分析,结合理论设计核对了现场伴热缆的选型情况;依据现场设备布置情况而制定了相应的解决方案,而且通过试验和长期跟踪较好地解决了8RRB301AA 因设计布置等原因造成的故障,为其他同类故障的处理指明了方向。     

ASIC原型构建：是做还是买？

随着数字集成电路(IC)的设计变得更加复杂,验证其功能的工作也越来越复杂了。在能被设计的门电路数量和能在合理时间内被验证的门电路数量之间一直存在差距,而这些年来,EDA厂商们在缩小这种差距方面几乎无所作为。     

高分散度Pt/C电催化剂的制备

Cabot公司Vulcan XC-72型炭黑，经过H2O2氧化处理后作为Pt的载体，H2PtCl6作为金属前驱体制备了高度分散的Pt/C催化剂。讨论了不同条件下H2PtCl6在炭黑上的吸附性能。载体经过H2O2氧化处理24h,H2PtCl6在pH=9下吸收48h，H2 350℃还原2h，可以制备出铂晶粒平均大小为1.8nm的Pt/C电催化剂。     

爱立信信息

爱立信推出最小的HSDPA/EDGE移动平台；爱立信为捷克3G核心传输网络供应设备；爱立信点播业务提升移动电视功能；爱立信完成全球首次基于MIMO技术的HSPA演示。     

电调整微蚀刻

评述了采用电调整微蚀刻试验表明,它适用于各种各样的线宽和间距的精细导线的制造。比起常规喷射蚀刻工艺来,其侧蚀小、蚀刻因子和tanθ高的效果。     

利用静电学和测量数据对碳纳米管膜场致发射规律的定量分析

碳纳米管膜的场致发射电流密度仅由它表面的宏观电场决定，无论其表面形状是平的还是半球状的。对于理想的平行板电极系统，其表面电场强度均匀（UId），发射电流密度、总电流与发射面积成正比：对于半球一平面电极系统半球形的阴极存在一个宏观场增强因子ks，一个与两极距离和球半径之比（d/r）相关的函数，其表面的平均场强为ks U/d。对于d/r=0，ks=1，d≥r的情况，ks接近于常数。对于10〈d／r〈100的情况，存在一个经验的表达式：ks=1＋0．15d/s=0．005（d／r）^2。在引入ks后，不同作者给出的平面电极系统和半球一平面电极系统碳纳米管膜的场致发射电流I与宏观表面电场强度E的关系都可以近似用-经验公式描述：I=a（E-Eo）^b，a，b为常数。该经验公式可为稳定生产的CNT膜片应用产品设计提供方便。     

市场推广

E＋H第四届亚台地区ALN会议在上海召开市场推广;全国应变电测与传感器技术研讨会;施耐德电气在岭澳柱电站二期项目中获得1180万欧元订单;“中航”仪表走俏海外市场;