纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究

在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备了厚为630－780nm的e-Ti-N薄膜。结果表明：当膜成分（原子分数，％，下同）在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内，薄膜由α′和Ti2N沉淀组成，磁化强度4πMs超过纯铁，最高可达2.38T；而矫顽力Hc下降为89A／m，可以满足针对1.55Gb/cm^2高存储密度的GMR／感应式复合读写磁头中写入磁头的需要，N原子进入α-Fe使α′具有高饱和磁化强度；Ti的加入，阻止α′→α γ′的分解，稳定了强铁磁性相α′，是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因。由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度Hc^D与晶粒度D有以下关系：Hc^D∝D^6，晶粒度控制非常重要。N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙，引起极大的畸变，使晶粒碎化。提高溅射功率也使晶粒度下降。两者共同作用，能使晶粒度下降到约14nm，使Hc下降。晶界是择优沉淀地点，在α′晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用，阻止晶界迁移，使纳米晶α′不能长大。薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃。     

用于微型电源中的极薄微型磁心

电源微型化就必须向高频化发展 ,但是高频化又导致电感交流损耗、半导体开关元件损耗增大 ,为此应寻求最佳的频率 ,众所周知降压电源最佳工作频率 fs =V02I01-V0 /VpL ,式中 fs-开关频率 ,L-电感值 ,Vp -输入电压 ,V0 、I0 分别为输出电压和电流 ,实际上电源整体的高效率与微型化是矛盾的 ,在低开关频率下要使半导体及电感损失降低 ,就必须确保高效率、高电感及良好的直流叠加特性。为此NEC技术开发部的管原英州等开发出薄膜磁心 ,在 12 5～ 2 5 μm厚的聚酰亚胺基板上溅射生成膜 ,在其积层体螺旋状绕上导线构成数 10 0 μm厚的磁心 ,…     

超精密平面电机控制技术

分析了平面电机的结构及其原理,提出了相应控制技术.对平面电机的驱动力进行解耦,讨论了磁场非均匀性及磁场耦合对平面电机驱动力非线性的影响,并给出相应的补偿方法.最后给出了平面电机定子垂向对称性标定方法,提高了平面电机的定位精度.     

磁场淬火过程应力场的数值模拟

本文从热非弹性理论、计算力学、铁磁学和相变理论出发,在分析温度、相变、应力之间相互耦合关系的基础上,讨论了相变条件的数学模型和铁磁材料热物理性能改变的方程,建立了磁场淬火时包含相变的热弹塑性本构方程.在前期已求得的45钢圆柱体试件在热、磁耦合条件下瞬态温度场分布的基础上,用有限元法求得了瞬态热应力和残余热应力,并就磁场对热应力的影响进行了讨论.     

表面涂层对经横向磁场热处理后超微晶磁性能的影响

用４种不同的粘结剂对经横向磁场处理后３种规格Φ１４×１９×６．５、Φ１４×２０×１０、Φ１４×１８×２０（ｍｍ）超微晶Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｎｂ３Ｓｉ１３．５Ｂ９进行表面涂层，用直流磁特性测量仪分别测量了涂层前后铁芯样品的磁滞回线。发现经涂层后Ｂ１０有不同程度的降低，而Ｂｒ和Ｈｃ对不同规格铁芯、不同粘结剂有不同的变化。这可由磁场感生各向异性和磁弹性耦合局域各向异性综合决定来解释。经比较发现，第Ⅳ种粘结剂综合磁性能最佳。     

磁场深冷处理对合金钢力学性能的影响

对4Cr13、65Mn、60Si2Mn三种工业用钢分别进行了常规淬火、深冷处理和磁场深冷处理，并对经处理后的试样进行了力学性能测试。试验结果表明，深冷处理能提高钢的硬度、强度、冲击韧度和耐磨性，而磁场深冷处理的强韧化效果又明显超过常规深冷处理的。     

外加磁场对AZ31镁合金焊接接头组织性能的影响

在对5mm厚的AZ31镁合金板进行GTAW焊接的过程中，外加纵向交流磁场，研究了磁场对焊接接头的力学性能和显微组织的影响，并探讨了磁场的作用机理。结果表明：外加纵向磁场通过旋转电弧对熔池进行搅拌，不仅可以细化晶粒，使焊接接头的抗拉强度、硬度得到改善，还可以净化熔池中液态镁合金（使杂质球化并弥散分布），此外磁场的引入还可降低镁合金焊接热裂纹的敏感性，抑制热裂纹的产生。     

横向磁场感应加热在卡尺尺框淬火中的应用

卡尺尺框量爪量面在测量时与工件相接触．要求在一定深度内具有稳定均匀的高硬度。原处理工艺是将卡尺尺框外量爪放人缝式感应器中加热，每次只处理1件，加热时间为5s～7s。由于加热时它的两个侧面温度较高，而量面中心温度有时较低，导致量面中心的淬硬层浅并伴有软点产生。