改性羰基铁粉制备及其在蓝光固化磁控超疏水薄膜中的应用

针对超疏水涂层膜在固化过程中功能性颗粒的不受控运动以及传统的热固化能耗高、耗时长的缺点,通过对羰基铁粉进行改性,并将磁控技术和蓝光固化技术相结合构筑超疏水薄膜。分析改性剂质量比、用量、pH值以及温度对羰基铁粉改性效果的影响,确定最佳改性工艺;研究了磁场强度对光固化薄膜表面接触角以及形貌的影响规律。结果表明:当改性剂3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷与1H,1H,2H,2H-全氟葵基三甲氧基硅烷质量比为1:3,质量分数为20%,pH值为6,温度为75 ℃,时间为1.5 h时,羰基铁粉表面改性效果最佳,其活化度达到96%,Zeta电位绝对值由22 mV提高至43 mV;随着磁感应强度的增加,薄膜表面接触角不断增加,当磁感应强度为75 mT时,超疏水薄膜的表面接触角达到157.6°,滚动角为6°,符合超疏水标准。     

自耦磁控软起动器起动性能分析

为解决自耦降压存在的电流二次冲击问题,提出自耦磁控(ATMC)软起动方法。该方法将降压技术与调压技术相结合,充分利用自耦降压起动方式从电网吸收电流小及磁控调压方式起动电流平滑的优势,具有起动电流小、起动过程平滑的优点。介绍了ATMC软起动器的拓扑结构,分析了该软起动器实现电流平滑调节的原理,并进行仿真和试验,结果均表明ATMC软起动器起动性能良好,具有较好的应用前景。     

射频溅射法制取ZnS·Ag发光薄膜

用烧结ＺｎＳ·Ａｇ蓝色荧光粉靶在钇铝柘榴石单昌基片上射频溅射制了ＺｎＳ·Ａｇ蓝色发光薄膜。讨论了基片温度及放电气体中Ｈ２Ｓ的含量对薄膜发光特性的影响。实验表明，基片加热温度应控制在５００℃左右，放电气体中Ｈ２Ｓ含量应控制在０．２％左右，所制得的薄膜具有和Ｐ２２－Ｂ１荧光粉相同的发光光谱。     

2240kW高压鼓风机起动装置的选择

介绍2240kW高压鼓风机的基本情况，针对RQD—D7-6kV／2240kW型磁控软起动装置，从组成、技术数据、工作原理等方面进行分析比较．详细介绍其工作过程、工作特点及使用效果。     

在粗糙基片上成膜的物理模拟

用射频溅射法在粗糙基底上制备了ＺｒＯ２膜，模拟了在该种条件下膜的表面形貌空腔的形成规律，提出了在粗糙基底上镀制性能均匀，稳定薄膜的对策。     

可热加工真空磁控镀膜玻璃的研制

介绍了可热加工真空磁控镀膜玻璃的研制，并对膜层结构的设计，如何增强膜层与玻璃间的牢固性，以及生产中应注意的一些问题进行了介绍和探讨。     

衬底温度对ZnO薄膜氧缺陷的影响

采用射频磁控溅射在石英玻璃和单晶硅Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜，研究了衬底温度对ZnO薄膜中氧缺陷的影响。实验发现，ZnO薄膜c轴取向性随温度的升高而增强；当衬底温度达到550。C时，XRD谱上仅出现一个强的(002)衍射峰和一个弱的(004)衍射峰，显示ZnO具有优异c轴取向性。同时，随着温度的升高，ZnO薄膜的紫外透射截止边带向高波长方向漂移，其电导率也随衬底温度的升高逐渐增大，表明薄膜中的氧缺陷逐渐增多。这种氧缺陷是由于ZnO的氧平衡分压高于Zn所致，可通过提高溅射气体中氧含量来改善。     

磁控铁氧体贴片天线

我们曾经推导而得到圆型结构隔离铁氧体天线工作状态下的公式。而在预测辐射频率实验方案中，将这种空腔模型贴置于天线圆盘下侧，并且应用于铁氧体区域内，理论与实验的结果相当吻合。因此有必要制造一个铁氧体贴片天线，可清晰地反映偏转磁场控制性能的优越性。     

文字处理机薄膜热印头研制

文字处理机热印头是采用薄膜技术制造的一种具有高分辨率，高精晰度，快速打印的热打印机专且元件。本文主要研究薄膜热印头的结构，图形设计，制造及性能参数。     

ITO膜应用于建筑玻璃中的低辐射玻璃

镀膜玻璃根据其特性可分两大类.即遮阳膜和低辐射膜(又称隔热膜).本文主要阐述低辐射膜系中Indium Tin Oxide(缩写为ITO)膜,应用于建筑玻璃的特点、功能、效果、制备方法和有关主要工艺参数.