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CMP系统技术与市场 总被引:3,自引:1,他引:2
葛劢冲 《电子工业专用设备》2003,32(1):17-24
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况。 相似文献
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以正硅酸乙酯、钛酸正丁酯和聚乙二醇等为主要原料,采用溶胶-凝胶法成功合成了多孔SiO2-TiO2系块状材料。500℃焙烧2h后材料呈现非晶态结构。引入较多钛量时,使材料的孔径分布变窄、平均孔径下降,但增加了比表面积。在80℃热水中浸泡72小时以后,吸附一脱附曲线的类型和形状几乎没有变化;随着Ti含量的增加,比表面积和孔容积的变化率减小。多孔材料在98℃的20%硫酸溶液中重量损失率随Ti含量变化不大,Ti引入并不能提高材料在酸液中的耐蚀性;但引入Ti使多孔材料在95℃NaOH碱液中的耐蚀性明显改善。 相似文献
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使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3/C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加,成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大,而刻蚀基团F的密度也会增加,从而使得a—C:F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明,在高CHF3流量下沉积的a—C:F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C:F薄膜的制备中CHF3/(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。 相似文献
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日本住友化学公司使用一种新型的氧化方法从副产氯化氢中回收氯气,回收率高于99%。这一回收率大大高于传统工艺所得到的回收率。该工艺使用负载在金属氧化物上的氧气和贵金属催化剂在汽相中氧化HCl。反应在250~350℃和几个巴的压力下进行。反应得到的氯气用浓硫酸脱氢,然后通过系列液化和汽化精制。将未转化的HCl气体循环到反应器中。住友公司已在一所异氰酸酯工厂许可了该工艺,氯气的回收装置规模为100kt/a。日本开发一种回收氯的新工艺@郑元昌 相似文献