Y1—xDyxBa2Cu3O7—δ（x=0.03,0.05）超导薄膜制备及性能

叙述了用双靶直流磁控溅射仪制备Ｙ１－ｘＤｙｘＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ（ｘ＝０．０３，０．０５）超导薄膜的工艺，按其工艺的薄膜Ｔｃ均大于８８Ｋ，随着ｘ值增加，Ｊｃ有上升趋势，ＸＲＤ，ＳＥＭ的结果表明镝掺杂膜有很好的ｃ轴取向，讨论了高温超导体钉扎机制。     

高频溅射碳化硅薄的退火效应

本采用高频溅射方法，在抛光Ｓｉ（１１１）衬底上制备出碳化硅薄膜，了薄膜的高温真空退火勺，实验表明，退火后的薄膜具有较淡理想的结晶取向和发光性质。     

白钨降磷试验研究与生产实践

白钨浮选中合磷矿物引起的白钨精矿起磷，通常的办法是酸浸或摇床重选分离。但对于稀土矿物磷钇矿、独居石引的超磷比法就无能为力了。为此，我们在浮选中用明确水玻璃来抑制合磷稀土矿物和磷灰石，取得了比较可观的技术指标，解决了酸浸和摇床重选分离无法分选的难题，处理了一批积压的含磷较高的白钨，为企业创造了显著的经济效益。     

AFTEX—3000F型ECR溅射装置

电子回旋共振(ECR)等离子体法广泛用于SiO_2、Si_3N_4膜等的低温CVD技术,以及MOS器件的微细栅极刻蚀技术。在ECR等离子体法中,由于低气压下生成高离子化的等离子体,故以低能量、大的离子电流照射而能持续进行表面反应,然而以往的技术无法实现高质量的薄膜工艺。由于用固体靶溅射,靶材供给容易,进而把上述技术作为基础,开发了ECR溅射技术。