薄Si膜对基底表面粗糙度的影响

利用ＺＹＧＯ光学干涉测量仪，散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度．详细分析了薄Ｓｉ膜对基底均方根粗糙度的影响，由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度，结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象．提出了一定厚度范围的薄Ｓｉ膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想．     

薄膜蒸镀光学控制中的一种现象的数学分析

证明了在连续蒸镀两层高，低折射率介质膜过程中，当第一层厚度不足λ／４厚时，刚开始蒸镀第二层膜时其反射率变化趋势与第一层膜相同，并由此展开，说明两层厚度不足λ／４的薄膜在很大程度上等价于一层λ／４的薄膜。     

非晶型磷化成膜技术的研究

就非晶型磷化成膜技术的工艺方法、膜层的理化性能、质量控制因素等作了必要的论述，并对成膜机理进行了有益的探讨。本技术已经获得了工业上的实际应用，受到了越来越多的用户的欢迎。     

离子膜烧碱计算机控制系统

介绍了化工部“八五”攻关项目——离子膜烧碱计算机控制系统，就系统的构成、功能以及离子膜烧碱工艺中一些较为复杂的控制方案作了详细说明     

空气中烧成的镍导体及其应用

将空气中烧成的镍导体用于散热制冷片制作工艺中，可降低成本，提高合格率。通过实验得到的最佳值为：镍导体中４号玻璃（ＳｉＯ２＞３０，Ｂ２Ｏ３＞１０，ＰｂＯ＜５５，ＴｉＯ２少许）的含量４．５％，化学镀镍时间５０ｍｉｎ，方阻４７．５ｍΩ／□，附着力８．１Ｎ／ｍｍ２。     

相转移催化合成芳基烷基醚

报道了以四丁基溴化铵为相转移催化剂，简便地合成了１０个芳基烷基醚，反应几乎是定量地快速进行。     

相转移催化合成甲酸苄酯的研究

本论述了以ＣＴＭＡＢ为相转移催化剂，氯化苄和甲酸钠为原料合成甲酸苄酯的方法。并对原料配比、催化剂用量、反应时间等影响因素及催化剂的回收利用进行了研究，实验表明，本方法操作简单、原料价廉、产品质量好、产率高、无三废污染并易于工业化生产。