CSTN-LCD用铬版清洗效果的改善

利用铬版清洗机对CSTN-LCD用铬版进行清洗处理,分析了清洗过程中出现的铬层脱落现象,铬层脱落与轴向喷射压力和水平切力密切相关,通过调整转速和喷射压力探索了安全使用条件:在转速不超过1000r/min,喷射压力低于0.5×105Pa的情况下使用铬版清洗机进行清洗是相对安全的。同时采用预清洗处理的方法满足清洁要求,使换线时间由平均3h缩短到平均1h以内,年产能提高270000片。     

井下乳化/水热催化裂解复合降黏开采稠油技术研究

实验考察了胜利孤东稠油井下催化水热裂解和乳化/催化水热裂解降黏效果。所用催化剂为水溶性铁镍钒体系,Fe3+∶Ni2+∶VO4+=5∶1∶1,100 g稠油与30 g 0.5%催化剂水溶液在240℃反应24小时。原始黏度(50℃)11.0和8.36 Pa.s的两种稠油裂解并静置除水后,黏度降低76.2%和75.6%,室温放置60天后降黏率下降小于3个百分点,气相色谱显示裂解后轻组分明显增加,红外光谱显示稠油组分发生脱羧反应且芳环数减少。讨论了稠油催化水热裂解反应机理。所用化学助剂JN-A在油水中均可溶,耐温达250℃,耐矿化度达50 g/L,其水溶液以30∶100的质量比与稠油混合时形成低黏度的O/W乳状液。当水相含1.0%JN-A和0.5%催化剂时,两种稠油水热裂解后的反应混合物为O/W乳状液,黏度仅为319和309 mPa.s,静置除水后的稠油降黏率增加到86.5%和87.3%,其中的轻组分含量进一步增加。该井下乳化/催化水热裂解复合降黏法成功地用于孤东两口蒸汽吞吐井,稠油井作业后初期采出的原油黏度由~9 Pa.s降低到1 Pa.s左右,随采油时间延长而逐渐升高,约50天后超过4Pa.s。图2表6参5。     

关于建立城市智能交通实验研究中心的设想

基于联系国内外智能交通系统研究的具体实际，提出了建立城市智能交通实验研究中心的设想，并结合一个集成了视频和线圈信息采集方式的实验研究中心简单设计方案，对其所具有的基本功能作了初步研究和探讨。该系统兼具促进交流和有关培训等社会职能，可以作为国家智能交通事业发展过程中一种特殊的示范工程。     

一种高性能的新结构IGBT

提出了一种低功率损耗的新结构IGBT.该新结构的创新点在于其复合耐压层结构,该耐压层包括深扩散形成的n型缓冲层和硼注入形成的透明背发射区两部分.虽然在正常工作条件下,该新结构IGBT工作于穿通状态,但器件仍具有非穿通IGBT(NPT-IGBT)的优良特性.该新结构IGBT具有比NPT-IGBT更薄的芯片厚度,从而可以获得更好的通态压降和关断功耗之间的折衷.实验结果表明:与NPT-IGBT相比较,新结构IGBT的功率损耗降低了40%.     

水平井钻探中的小层对比

该针对水平井在施工钻探过程中轨迹控制难度大的情况，运用标志层对比、电性组合特征对比和岩性、电性组合关系对比等方法，结合实例进行水平井钻探中的小层对比，准确预测目的层深度，确保实钻井身轨迹准确钻达目的层并在目的层内穿行，来最大限度地获取油层段长，进行油层追踪，满足提高采收率的勘探开发需求。     

MOCVD生长薄膜材料制作半导体可饱和吸收镜

介绍了当前国际上流行的用半导体可饱和吸收镜来对固体激光器、光纤激光器和半导体激光器进行被动锁模的方法，阐述了半导体可饱和吸收镜用来作为被动锁模吸收体的原理，并介绍了如何利用金属有机气相淀积(MOCVD)技术生长各种波长激光器所需要的半导体可饱和吸收镜。     

合理选择射孔层段和增产技术提高Khuff气藏中的天然气采收率

沙特阿拉伯-美国石油公司(APAMCO)已着手一项酸化压裂计划，该计划用于处理沙特阿拉伯东部加瓦尔气田内的Khuff碳酸盐岩气藏。Khuff气藏产层系二叠系碳酸盐岩，平均埋深约11，500英尺。该气藏的两个主要生产层段为KhuffB和KhuffC，经测试均为高品质的富凝析气层。Khuff气藏的储层主要由白云岩层和石灰岩层组成，夹页岩和硬石膏薄层，该薄层构成非渗透性的和可能裂缝性的阻挡层。储层厚度延伸达数百英尺，其品质和生产潜力具多变性。精心设计完井技术和选择增产措施对于获得有效裂缝控制范围和提高天然气采收率而言，是重要的。本文重点选择射孔层段和增产技术，目的是开发和提高Khuff碳酸盐岩气藏的产能。     

超声波清洗在贵/廉金属复合材料生产过程的应用研究

本文结合“ODS清洗剂消费淘汰项目”的实施，并对新型超声波清洗机及新型ODS清洗液进行了工艺试验，阐述了超声波清洗技术是贵／廉金属复合材料生产过程中无可替代的清洗技术。     

微波集成电路（MIC）中Au／NiCr／Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究

Au/NiCr／Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向，SEM观察薄膜断面形貌，AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关，随着沉积温度100℃→250℃的改变，薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程。根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机理。