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采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm. 相似文献
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深亚微米标准单元库的设计与开发 总被引:2,自引:0,他引:2
随着深亚微米工艺技术的发展,0.18μm COMS工艺巳成为国际主流的集成电路工艺标准。国内的深亚微米工艺也日趋完善,我们首家针对中芯国际0.18μm工艺,成功设计开发了0.18μm标准单元库。本文简要介绍了0.18μm标准单元库的设计与开发。 相似文献
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本文介绍近年来为了适应高速和大容量光纤通信系统中高密度和高效率的互连布线的需要 ,日本住友和藤仓两家公司在 MT/MPO光纤连接器方面所进行的研究开发工作。研究重点在这些连接器中的关键部件MT套筒的改进。采用了注塑成形的 PPS新材料来制造套筒 ,以取得超低而稳定的介入损耗 ;提出了在连接端面附近的导引孔周围打倒角 ,以改善反复接插的耐久性。引入了最大达 16芯的单维 MT连接器和最大达 6 0芯的 2 -维阵列 MT连接器 ,以代替用多个 12芯 MT套筒的大芯数连接器 ,显著增加了光纤密度。开发了 2 -维阵列 MT连接器用的 2 4芯扁光纤带光缆代替圆光缆。文章介绍了这些新开发的产品的光学、机械和环境等方面的各项性能 相似文献
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本文简要介绍了工业净洗剂在搪瓷用钢板坯材表面处理中的清洗、阻蚀、保护等多种作用,同时简要介绍了清洗后的废水的处理方法。 相似文献
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介绍了Freescale公司嵌入式微处理器MCF5282的原理、特点,给出了该处理器在嵌入式操作系统uClinux下通过I2C硬件扩展数字输入的原理,以及I2C总线的驱动程序设计流程. 相似文献